甘肃金属靶材新建项目
策划方案
规划设计/投资分析/实施方案
报告说明—
溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅射靶材。
该金属靶材项目计划总投资14617.53万元，其中：固定资产投资12162.11万元，占项目总投资的83.20%；流动资金2455.42万元，占项目总投资的16.80%。
达产年营业收入19215.00万元，总成本费用14871.92万元，税金及附加260.11万元，利润总额4343.08万元，利税总额5202.24万元，税后净利润3257.31万元，达产年纳税总额1944.93万元；达产年投资利润率29.71%，投资利税率35.59%，投资回报率22.28%，全部投资回收期5.99年，提供就业职位317个。
高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。其主要技术门槛表现在以下几个方面。纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。对于复相结构的合金靶材
和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样控制溅射靶材的晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问题是溅射靶材的研发的关键。靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的塑性变形、热处理工艺加以控制。
第一章 项目总论
一、项目概况
（一）项目名称及背景 甘肃金属靶材新建项目
靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材。是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。
溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制备十分重要。溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用，因此，靶材是溅射过程的关键材料。
（二）项目选址 xx高新区
甘肃，简称甘或陇，中华人民共和国省级行政区，省会兰州。位于中国西北地区，东通陕西，西达新疆，南瞰四川、青海，北扼宁夏、内蒙古，西北端与蒙古接壤。介于北纬32°11′—42°57′，东经92°13′—
108°46′之间，总面积42.58万平方千米。甘肃地形呈狭长状，地貌复杂多样，山地、高原、平川、河谷、沙漠、戈壁，四周为群山峻岭所环抱，地势自西南向东北倾斜。甘肃地处黄土高原、青藏高原和内蒙古高原三大高原的交汇地带，气候类型从南向北包括亚热带季风气候、温带季风气候、温带大陆性干旱气候和高原山地气候四大类型。截至2019年末，甘肃省下辖12个地级市、2个自治州、17个市辖区、5个县级市、57个县、7个自治县，常住人口2647.43万人，实现地区生产总值（GD）8718.3亿元，其中，第一产业增加值1050.5亿元，第二产业增加值2862.4亿元，第三产业增加值4805.4亿元，三次产业结构比为12.05∶32.83∶55.12。按常住人口计算，人均地区生产总值32995元。
对周围环境不应产生污染或对周围环境污染不超过国家有关法律和现行标准的允许范围，不会引起当地居民的不满，不会造成不良的社会影响。项目选址应符合城乡建设总体规划和项目占地使用规划的要求，同时具备便捷的陆路交通和方便的施工场址，并且与大气污染防治、水资源和自然生态资源保护相一致。
（三）项目用地规模
项目总用地面积47056.85平方米（折合约70.55亩）。 （四）项目用地控制指标
该工程规划建筑系数67.45%，建筑容积率1.09，建设区域绿化覆盖率6.86%，固定资产投资强度172.39万元/亩。
甘肃金属靶材新建项目策划方案
