MOCVD法氧化锌单晶薄膜生长

MOCVD法氧化锌单晶薄膜生长

刘博阳;杜国同;杨小天;赵佰军;张源涛;高锦岳;刘大力;杨树人

【摘 要】介绍了氧化锌材料的一些突出特性以及生长氧化锌的方法.并通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法制备了优良的氧化锌薄膜.使用X射线衍射(XRD)谱和室温光致发光(PL)光谱对所生长氧化锌薄膜的晶体质量和光学特性进行了研究. X射线衍射谱图显示仅在2θ=34.72 °处有一个很陡峭的ZnO (002) 晶面衍射峰,说明所制备的氧化锌薄膜c轴取向高度一致.此衍射峰的半高宽为0.282 °,显示出较好的晶体质量.在室温光致发光谱中, 薄膜的紫外发光强度与深能级复合发光的强度比超过10∶1,表明薄膜的光学质量较高. 【期刊名称】《液晶与显示》 【年(卷),期】2004(019)002 【总页数】4页(P99-102)

【关键词】氧化锌;金属有机化学气相沉积;薄膜;生长

【作 者】刘博阳;杜国同;杨小天;赵佰军;张源涛;高锦岳;刘大力;杨树人

【作者单位】吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;吉林大学,物理学院,相干光、原子与分子光谱教育部重点实验室,吉林,长春,130021;吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;吉林大学,物理学院,相干光、原子与分子光谱教育部重点实验室,吉林,