（19）中华人民共和国国家知识产权局
（12）发明专利说明书
（21）申请号 CN201310036037.5 （22）申请日 2013.01.30
（71）申请人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
地址 215125 江苏省苏州市工业园区独墅湖高校区若水路398号
（10）申请公布号 CN103060775B
（43）申请公布日 2014.12.03
（72）发明人 王劼;张立国;范亚明;张泽洪
（74）专利代理机构 北京华夏博通专利事务所(普通合伙)
代理人 孙东风
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
用于CVD设备的多面漏斗型进气装置及CVD设备
（57）摘要
本发明公开了一种用于CVD设备的多
面漏斗型进气装置及CVD设备。该进气装置呈多面体形结构，包括呈环形分布的复数个漏斗瓶进气喷头，其中任一漏斗瓶进气喷头内均设有相互隔离的内层进气腔和外层进气腔，所述内层进气腔和外层进气腔分别与第一进气管和第二进气管连通。该CVD设备包括前述多面漏斗型进气装置。本发明能够将不同反应源气体分隔送入反应室中，使不同反应源到达衬底前就已充分混合，并且有效抑制预反应，同时，本发明还可使反应气体
以一定角度，从一个小区域均匀扩散到一个大的区域之中，实现层流，为反应室提供均匀而且可以快速切换的供气。本发明可有效提高CVD设备外延生长的速度、质量以及原材料利用率。 法律状态
法律状态公告日2013-04-24 2013-05-29 2014-12-03
法律状态信息
公开
实质审查的生效 授权
法律状态
公开
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权利要求说明书
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用于CVD设备的多面漏斗型进气装置及CVD设备
