真空紫外光解SO32-高效还原降解全氟辛烷磺酸

真空紫外光解SO32-高效还原降解全氟辛烷磺酸

作者：宋洲;周茜;方晓青

作者机构：湖北省地质调查院,湖北武汉430034;湖北省地质实验测试中心,湖北武汉430034;湖北省产品质量监督检验研究院,湖北 武汉430070;湖北省地质实验测试中心,湖北武汉430034 来源：环境污染与防治 ISSN：1001-3865 年：2024 卷：040 期：006 页码：645-651 页数：7 正文语种：chi

关键词：全氟辛烷磺酸;真空紫外光解;SO32-;水合电子;还原降解

摘要：为消除全氟辛烷磺酸(PFOS)对环境水体带来的不利影响,采用真空紫外(VUV)光解SO32-产生水合电子(eaq-)还原降解PFOS.结果表明,在溶液初始pH为10.59,PFOS为20.0 μmol/L,SO32-为10.0 mmol/L的条件下,反应180 min,PFOS的脱氟率为53.5％,高于相同条件下紫外光解SO32-体系(40.2％),通过刃天青探针实验证实与体系eaq-的生成量有关.动力学分析表明,PFOS脱氟满足平行指数动力学(PEK)模型,其快反应与慢反应分别对应于PFOS支链与直链异构体的降解.液相色谱—串联质谱(LC-MS/MS)监测发现,PFOS降解主要中间产物为短链全氟羧酸(PFCAs),且全氟丙酸(PFPrA)和全氟丁酸(PFBA)浓度较高,表明PFOS在eaq-的进攻下除了直接脱除a位氟原子及发生端基断裂外,还能通过中间碳碳键断裂的方式进行降解.