用于制备大面积钙钛矿薄膜的脉冲CVD设备

由天下分享时间：2024/12/23 18:48:40 加入收藏我要投稿点赞

（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201710190304.2 （22）申请日 2017.03.28 （71）申请人常州大学

地址 213164 江苏省常州市武进区滆湖路1号常州大学

（10）申请公布号 CN107058976A

（43）申请公布日 2017.08.18

（72）发明人王书博;丁建宁;袁宁一;贾旭光（74）专利代理机构

代理人

（51）Int.CI

权利要求说明书说明书幅图

（54）发明名称

用于制备大面积钙钛矿薄膜的脉冲CVD设备

（57）摘要

本发明涉及一种用于制备大面积钙钛矿薄

膜的脉冲CVD设备，包括沉积系统和两路原料吹送系统，沉积系统包括至少一个沉积室以及真空泵；各个沉积室的上端分别连接有第一进气管和第二进气管，第一进气管和第二进气管上分别设置有第一脉冲阀和第二脉冲阀，第一进气管与第一路原料吹送系统连接，第二进气管与第二路原料吹送系统连接；各个沉积室的下端分别连接有排气管，各个排气管分别与真空泵连接，各个排

气管上设置有截止阀；各个沉积室内设置有衬底加热器，待加工衬底放置在衬底加热器上。本发明的大面积钙钛矿薄膜的设备，通过逐层生长的模式，大大提高了钙钛矿薄膜大面积均匀性，多腔体的构造可以实现大规模的生产。

法律状态

法律状态公告日

2017-08-18 2017-08-18 2017-08-18 2017-09-12 2017-09-12 2024-10-30

法律状态信息

公开公开公开

实质审查的生效实质审查的生效

专利申请权、专利权的转移

法律状态

公开公开公开

实质审查的生效实质审查的生效

专利申请权、专利权的转移