图片简介:
本技术涉及用于产生大气等离子体射流(12)的装置(40,40’,40”,40”’，100,110)的喷嘴组件
(42,42’,42”,42”’)，其具有入口(48)，大气等离子体射流(12)可通过该入口引入喷嘴组件(42,42’,42”,42”’)中，并且具有与入口(48)这样连接的通道(56,56”’)，即，使得通过入口(48)引入
喷嘴组件(42,42’,42”,42”’)中的等离子体射流(12)通过通道(56)引导，其中沿通道(56,56”’)在通道壁中设置多个喷嘴开口(62)，通过通道(56,56”)引导的等离子体射流(12)可以通过该喷嘴开口从喷嘴组件(42,42’,42”,42”’)中喷出。本技术还涉及用于产生大气等离子体射流(12)的、具有这种喷嘴组件的装置(40,40’,40”,40”’，100,110)，其应用，用于等离子体处理织物(72)的方法，相应经过等离子体处理的织物(72)和具有由经等离子体处理的无纺织物(72)制成的层(86，88)的卫生用品(88)。
技术要求
1.用于产生大气等离子体射流(12)的装置(40,40’,40”,40”’，100,110)的喷嘴组件(42,42’,42”,42”’)，所述喷嘴组件
-具有入口(48)，大气等离子体射流(12)可通过所述入口引入喷嘴组件(42,42’,42”,42”’)中，并
且
-具有与所述入口(48)这样连接的通道(56,56”’)，即，使得通过入口(48)引入喷嘴组件(42,42’,42”,42”’)中的等离子体射流(12)通过通道(56)引导，
-其中沿通道(56,56”’)在通道壁中设置多个喷嘴开口(62)，通过所述通道(56,56”’)引导的等离
子体射流(12)通过所述喷嘴开口从喷嘴组件(42,42’,42”,42”’)中喷出，其特征在于，
-在所述喷嘴开口(62)区域中的通道(56,56”’)的横截面(124’,124”,124”’,140,142,144)成形为，
使得在穿过喷嘴开口(62)的横截面的虚拟第一切平面(130)和与其相对而置并且平行于第一切平面(130)的、横截面的虚拟第二切平面(132)之间的中心延伸的虚拟中间平面(134)将横截面划分为喷嘴开口(62)处的第一横截面区域(126’,126”,126”’)和与喷嘴开口(62)相对的第二横截面区域(128’,128”,128”’)，并且
-所述第一横截面区域(126’,126”,126”’)的横截面积与第二横截面区域(128’,128”,128”’)的横截
面积不同，差值优选为至少5％，尤其是至少10％。
2.根据权利要求1所述的喷嘴组件，其中所述通道(56,56”’)具有直的区段，并且所述喷嘴开
口(62)在所述通道(56,56”’)的延伸方向上布置在所述通道壁中。
3.根据权利要求1或2所述的喷嘴组件，其中所述通道(56,56”’)在两侧与所述入口(48)连接，
由此通过所述入口(48)引入所述喷嘴组件(42)的等离子体射流(12)从两侧引导到所述通道
(56,56”’)中。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的喷嘴组件，
其特征在于，通道壁中的喷嘴开口(62)的直径至多是通道直径的四分之一。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的喷嘴组件，
其特征在于，通道(56,56”’)的横截面随着与入口(48)的距离的增加而变宽。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的喷嘴组件，
其特征在于，喷嘴组件(42,42'，42”，42”’)多件式形成，所述喷嘴组件包括：喷嘴元件
(52,52'，52”，52”’)，所述喷嘴元件具有含喷嘴开口(62)的通道(56,56”’)；分配元件(50,50'，50”’)，所述分配元件包括分配通道(66)，通过所述分配通道将通过入口(48)引入的
等离子射流(12)在一侧或两侧上引导至通道(56,56”’)中。
7.根据权利要求6所述的喷嘴组件，
其特征在于，第二横截面区域(128’,128”,128”’)的横截面积大于第一横截面区域
(126’,126”,126”’)的横截面积。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的喷嘴组件，
其特征在于，喷嘴组件(42,42’，42”，42”’)多件式形，所述喷嘴组件具有第一部分
(52,52’，52”，52”’)，在所述第一部分的表面中引入第一凹口(120’，120”，120”’)，并且具
有第二部分(50，50’，50”’)，在所述第二部分的表面中引入第二凹口(122’，122”，122”’)，其中第一和第二部分相邻，使得第一和第二凹口彼此相对而置并形成通道
(56,56’，56”，56”’)。
9.用于产生大气等离子体射流(12)的装置(40,40’，40”，40”’，100,110)，所述装置-包括放电空间(36)，
-其中所述装置(40,40’，40”，40”’，100,110)形成用于在放电空间(36)中产生大气等离子体射
流(12)，其特征在于
-根据权利要求1至8中任一项所述的喷嘴组件(42,42’，42”，42”’)以这样的方式与所述放电空
间(36)相连，使得在所述放电空间(36)中产生的等离子体射流(12)被引入所述喷嘴组件
(42,42’，42”，42”’)的入口(48)。10.根据权利要求9所述的装置，
其特征在于，所述装置(40,40’，40”，40”’，100,110)形成用于通过工作气体(16)中的电弧放电(34)产生大气等离子体射流(12)，其中，通过在电极(24,4)之间施加高频高压能够产生电弧放电(34)。
11.根据权利要求9或10的装置(40,40’，40”，40”’，100,110)用于材料，尤其是织物(72)或薄
膜，尤其是塑料薄膜或金属薄膜的等离子体处理的应用。
12.根据权利要求11所述的应用，
其特征在于，所述装置(40,40’，40”，40”’，100,110)用于无纺织物(72)的等离子体处理，尤其是用于尿布，卫生巾或衬垫，或用在尿布，卫生巾或衬垫的制造中。
13.使用根据权利要求9或10所述的装置(40,40’，40”，40”’，100,110)等离子体处理材料，优
选织物，尤其是无纺织物(72)或薄膜，尤其是塑料薄膜或金属薄膜的方法，
-在所述方法中用装置(40,40’，40”，40”’，100,110)产生大气等离子体射流(12)，使得等离子
体射流(12)以多个部分射流(70)的形式从通道壁中的喷嘴开口(62)中喷出，并且
-在所述方法中，为材料(72)，优选织物(72)或薄膜，尤其是塑料薄膜或金属薄膜的表面施加
等离子体射流(12)的部分射流(70)。
14.根据权利要求13所述的方法，
其特征在于，材料，尤其是织物(72)或薄膜是幅面形式材料，并且运输经过所述装置
(40,40’，40”，40”’，100,110)的喷嘴开口(62)。15.根据权利要求13或14所述的方法，
其特征在于，所述材料，尤其是织物(72)或薄膜，在大气压范围内施加以等离子体射流(12)的部分射流(70)。
16.通过包括以下步骤的方法生产的经等离子体处理的无纺织物(72)，尤其是ADL，-提供无纺织物(72)，
-通过根据权利要求13-15中任意一项所述的方法对所述无纺织物(72)进行等离子体处理。17.用于吸收液体的卫生产品(82)，尤其是卫生巾或尿布，所述卫生产品包括根据权利要求16所述的经等离子体处理的无纺织物(72)制成的层(86,88)。
技术说明书
喷嘴组件和用于制造大气等离子体射流的装置技术领域
本技术涉及一种用于产生大气等离子体射流的装置的喷嘴组件，其具有入口，大气等离子体射流可通过该入口引入喷嘴组件，并且具有与入口这样连接的通道，即，使得通过入口引入喷嘴组件中的等离子体射流通过通道引导。本技术还涉及一种用于产生大气等离子体射流的装置。
本技术还涉及用于等离子体处理织物或塑料薄膜的方法和等离子体处理的无纺织物。背景技术
在尿布，卫生巾或衬垫(例如医用衬垫)的制造中，使用无纺织物层，特别是所谓的吸收层和分配层，利用该层，液体可以从皮肤表面快速引导到吸收材料中，通常至含有所谓超级吸收剂(超级吸收性聚合物)的层中。分布层在实践中通常称为AQL(采集层)或ADL(采集分配层)。
这些无纺织物层，尤其是ADL/AQL，有不同的质量。无纺织物层的质量由根据ISO9073-
13：2006测定的所谓液体透湿时间(英文(liquid)strike-through time)给出，其表示液体被无纺
织物层吸收并传递的速度的量度。透湿时间越短，尿布，卫生巾或衬垫中的无纺织物层的功能越好。
因为无纺织物层，特别是ADL/AQL，占尿布，卫生巾或垫的材料成本很大比例，所以经常为廉价的产品使用具有高透湿时间的低质量的无纺织物层，由此尿布，卫生巾或衬垫的功能劣化。对于更高质量的产品，使用更高质量的无纺织物层。然而，这一方面更昂贵，并且另一方面具有更高的单位面积重量，这也导致更高的材料消耗和尿布，卫生巾或垫的更高的重量。
需要改善薄或廉价无纺织物层或ADL/AQL的透湿时间，以便能够以较低的成本生产优质的尿布，卫生巾或衬垫。技术内容
喷嘴组件和用于制造大气等离子体射流的设备的制作技术
