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呋喃丹在L-赖氨酸镍复合膜修饰电极上的电化学行为研究

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呋喃丹在L-赖氨酸镍复合膜修饰电极上的电化学行为研究

李克龙;黄晓东;严校平;陶然

【期刊名称】《安徽工程大学学报》 【年(卷),期】2011(026)002

【摘要】在玻碳电极上用循环伏安法制备L-赖氨酸镍复合膜,并对其聚合条件进行研究.研究表明:在pH=7.0的PBS缓冲液中L-赖氨酸镍复合膜在玻碳电极上的电聚合过程为不可逆过程,有明显的还原峰.用循环伏安法初步探讨了呋喃丹在该复合膜上的电化学行为,测得在5.0×10-6~1.0×10-4mol/L的范围内,呋喃丹还原峰电流与其浓度呈良好的线性关系.该修饰电极可用于呋喃丹含量的分析,有良好的稳定性和抗干扰能力. 【总页数】3页(P.15-17)

【关键词】呋喃丹;L-赖氨酸镍复合膜;电化学行为 【作者】李克龙;黄晓东;严校平;陶然

【作者单位】安徽工程大学微生物发酵安徽省工程技术研究中心,安徽芜湖241000

【正文语种】英文 【中图分类】S132 【相关文献】

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呋喃丹在L-赖氨酸镍复合膜修饰电极上的电化学行为研究

呋喃丹在L-赖氨酸镍复合膜修饰电极上的电化学行为研究李克龙;黄晓东;严校平;陶然【期刊名称】《安徽工程大学学报》【年(卷),期】2011(026)002【摘要】在玻碳电极上用循环伏安法制备L-赖氨酸镍复合膜,并对其聚合条件进行研究.研究表明:在pH=7.0的PBS缓冲液中L-赖氨酸镍复合膜在玻碳电极上的电聚合过程为不可逆过程,有
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