中国即将摘取“工业上的皇冠”——高端光
刻机技术！
高端光刻机技术，一直被誉为“工业之光”“工业上的皇冠”。
光刻机，是制造半导体芯片最为关键的设备，而半导体芯片主要应用于高端制造业和高科技领域上。我们国家要实现高质量、高速度发展，要实现中华民族伟大复兴，均离不开高端芯片。
但是，高端光刻机技术（7nm、5nm及以下），一直被外国企业所控制（荷兰），而且，这一技术在我国尚未取得重大突破。
美国正是看到了我们中国在这方面的技术存在短板和不足，就在高端半导体芯片上动了手脚，想以此遏制中国的发展。尤其是，特朗普就任总统以来，美国政府多次发布指令，禁止美国企业和其他国家，将高端半导体芯片生产供应给华为等中国企业。
如果美国的这一阴谋得逞，中国的经济、工业、科技等的发展，将受到严重的打击，实现制造强国，实现中华民族伟大复兴梦的步伐，将大大减缓。
比如，我国华为的5G技术目前已领跑全世界，但是，美国一旦实施技术封锁和芯片断供，对我国5G技术在全球都正常推广使用，将形成阻碍。
成功生产半导体芯片的技术的主要工艺流程有：湿洗、光刻、离子注入、干蚀刻、湿蚀刻、等离子冲洗、热处理、快速热退火、退火、热氧化、化学气相淀积（CVD）、物理气相淀积（PVD）、分子束外延（MBE）、电镀处理、化学/机械处理、晶圆测试和晶圆打磨，经过这些步骤都成功后，才能出厂封装。
看着步骤挺多，但是，再看看制作工序，其中的第二步就是光刻，也就是说，如果我们还没有掌握高端光刻技术工艺，后面的工序基本就无法继续进行。 为了能够研发出属于我们国家自主研发的核心科技高级芯片，不知道有多少优秀的人才，正在日以继夜地进行苦心钻研。
早日实现自主核心技术高级芯片国产化，是我们每一个中国人迫切的心愿。 不过，中国人向来都是聪明的，要不然不会屹立世界5000多年，尤其是，大学校园里的学子们的创新能力尤为突出。
最近，一款成本DIY纳米级光刻机！被一位95后男生攻克了。他是一位本科生，自己自制了一台光刻机。是的，你没听错，大连理工大学化工学院的学生
PengYiFeng，竟然凭着一张图纸成功在家里搭建了纳米级光刻机，还成功光刻出~75微米（75000纳米）的孔径。
目前，这位Peng同学还在读本科，整个制造过程都是在一间超简陋的小书桌上完成的，全部数学演算全靠一张白板，所有的材料都堆放在桌上地上，简直就是“家庭实验室的典范”。
今年5月，Peng同学已经发布了一个半导体光刻教程-1CM工艺教程成果，目前75μm工艺是在1cm的研究上研究出来的，当时由于时间有限，所以，他之前完成了一层，真正量产的芯片，不止一层。
虽然75微米到5纳米有数量级的差距，但是，由一个在校大学生在一个极其简陋的环境条件下搞出来，说明：神话般的荷兰光刻机，不是不可制造！！ 加油，年轻人！“工业上的皇冠”——高端光刻机技术！正等待你去摘取！中华民族伟大复兴，正等待你去施加能量和动力！
中国即将摘取“工业上的皇冠”——高端光刻机技术!
