真空镀膜(PVD)工艺介绍 - 图文

真空镀膜(PVD)工艺介绍真空镀膜(PVD)工艺知识介绍编撰：张学章拟订:张玉立讲解:刘红彪2010年01月20日目录

1. 真空镀膜技术及设备发展;2. 真空镀膜的工艺基本流程;3.真空镀膜的工艺特性;

4.真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求;5.真空镀膜工艺关键技术与先进性;6.真空镀膜新工艺展示;

7.东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍；

前言

真空镀膜行业兴起背景；随着欧盟RoHS指令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。传统高污染之电镀行业已不符合环保要求，必将被新兴环保工艺取代。而真空镀膜没有废水、废气等污染，在环保上拥有绝对优势，必将兴起并普及。

1：真空镀膜技术及设备发展

1. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法（简称PVD法）化学气相沉积法和放电聚合法等。我们今天主要介绍的是物理气相沉积法。由于这种方法基本都是处于真空环境下进行的，因此称它们为真空镀膜技术。

1.1：真空镀膜技术及设备发展2.物理气相沉积法依据制作过程工艺不同又分为真空蒸发镀膜、磁控溅射镀膜和离子镀膜。a.真空蒸发镀膜法：在真空室(镀炉)中加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到固体(待镀产品)表面，凝结形成固态薄膜的方法。真空镀膜法示意图样品蒸发公转高真空状态加热自转真空镀膜金属电源回路