光刻技术历史与发展

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光刻技术历史与发展

光刻工艺是集成电路最重要的加工工艺，他起到的作用 如题金工车间中车床的作用，光刻机如同金属加工工车间的车床。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技束。光刻也是制造IC的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻已经每年以百分之三十五的速度增长，他的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域，现在大型计算机的每个芯片上可以大约有10亿个零件。这就需要很高的光刻技术。如今各个大国都在积极的发展光科技束。光刻技术与我们的生活息息相关，我们用的手机，电脑等各种各样的电子产品，里面的芯片制作离不开光科技束。 在我们的日常生活中，也需要用到光刻技术制造的各种各样的芯片，最普通的就是我们手里的手机和电脑。如今是一个信息社会，在这个社会中各种各样的信息流在世界流动。而光刻技术是保证制造承载信息的载体。在社会上拥有不可替代的作用。

本论文的作用是向大家普及光刻的发展历史和光刻的发展方向，以及光刻的种类，每种光刻种类的优点和缺点。并且向大家讲述光刻的发展前景。在光刻这一方面，我国的专利意识稀薄，很多技术都没有专利，希望我辈能改变这个状况

Lithography process is the most important processing technology of integrated circuit, he play a role Such as the role of the lathe in machining shop, lithography as metalworking shop lathe. In the whole chip manufacturing technology, implementation of almost every process is inseparable from the lithography technology of beam. Lithography is the key technology of manufacturing IC, he war more than 35% of the chip manufacturing cost. In today's science and technology and social development, lithography has been growing at thirty-five percent a year, his growth, is directly related to the operation of large computer and other high-tech areas, large computer per chip can now has about 1 billion parts. This will require a very high lithography. Now the big countries are actively the development of light beam technology.Lithography is closely related to our life, we use the phone, all kinds of electronic products such as computer, the inside of the chip production

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without light beam of science and technology.

In our daily life, also need to use photolithography technology manufacturing all kinds of chips, the most common is our cell phones and computers. Today is a information society, in the society all kinds of traffic flow in the world. And make the bearing lithography technology is to make sure the carrier of information. Has an irreplaceable role in society.

Role of this paper is to popularize the development direction of the development history of lithography and lithography, and the types of lithography, and to talk about the development of lithography. In lithography on the one hand, China's patent consciousness is thin, a lot of technology patents, hope that we can change the situation.

Key words: lithography; Lithography species; Lithography Chinese and foreign history

编号 ........................................................ 错误!未定义书签。 第一章 绪论 ............................................................ - 2 - 第二章，光刻的历史 ....................................................... - 3 -

2.1光科技束的诞生 ................................................... - 3 - 2.2光科技束的发展初级阶段 ........................................... - 3 - 2.3光刻发展历史的快速阶段 ........................................... - 4 - 2.4十一世纪光科技束的发展 ........................................... - 5 - 第三章 光刻的分类 ........................................................ - 5 -

3.1光学光刻 ......................................................... - 5 - 3.2电子束光刻 ....................................................... - 6 - 3.3聚焦粒子束光刻 ................................................... - 6 - 3.4移相掩模 ......................................................... - 7 - 3.5X射线光刻 ........................................................ - 8 - 第四章总结与感谢 ............................................. 错误!未定义书签。

第一章 绪论

光刻的作用就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，

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从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。

第二章，光刻的历史

2.1光科技束的诞生

1947年，贝尔实验室发明第一只点接触晶体管。从此光刻技术开始了发展.当时的人们已经开始了计算机的发展，人们大量利用计算机，芯片的需求量大增，许多科学家都在研究证明发展计算机，于是光刻技术迅速被人们重视，并飞速发展，不过比较遗憾的是当时我国仍处于战乱之中，制版光刻还是个空白，半导体技术和科研号处在起步阶段。 2.2光科技束的发展初级阶段

在五十年代，结晶晶体管在国外诞生奥尔发明离子注入工艺，弗雷提出扩

散节工艺。在五十年代的国外，光刻技术是百花齐放。在1959年制造出来世界上第一架晶体管计算机，提出光刻工艺，仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片。新中国成立后，也很重视光刻技术的发展。有周总理亲自挂帅主持制定“十年科学发展技术远景规划纲要”光科技束半导体技术等列为国家重点研究科目。北大复旦南大厦大和东北人大等高校抽调精兵强将成立联合半导体专门化，中国科学院物理研究所成立半导体研究室。黄昆，谢希德，林兰英，王守武等前辈开始研究光刻技术。1956年我国研制出来了第一根锗合金晶体管。1957年我国建立第一条半导体试验线研制成功锗合金三极管。1958年建立了109厂，这是微电子所的前身，研制的锗合金三极管和磁膜储存器应用于109丙计算机1 如果说在五十年代对于光刻技术是以研究为主的话，那么在六十年代就是以生产为主了。经过了十年发展，光刻技术已经基本成型。在六十年代，光科技束已经从实验室走向了生产线。鲁尔发明外延生长工艺仙童提出互补氧化物半导体场效应晶体CMOSIC制造工艺，并且成功研制了世界上第一台IC计算机IBM360。在1965提出摩尔定律，研制出100个元件的小鬼吗集成电路和1000个元件的中闺蜜集成电路。成功研制CMOS门系列，并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线，GCA公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。

在世界技术发展的同时，我国的仍以三极管为主的制版光科技束萌芽年代，沿用古老传统的照相术级显微镜缩小曝光，人工光刻，坐标值加喷黑漆铜版纸加手术刀，精度和特征尺寸为几十微米，在1964年，我国成立中国半导体研究所和河北半导体研究所，并且研制成功第一只硅平面晶体管。并且在1964年成功研制第一个硅平面数字集成电路，并且成功研制第一台第三代计算机，在此后不

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