B.电解饱和食盐水阳极氯离子失电子发生氧化反应生成氯气,阴极氢离子得到电子发生还原反应生成氢气,反应的化学方程式为2NaCl+2H2O解饱和食盐水为基础制取氯气,故B正确;
C.制普通玻璃的原料:石英砂、石灰石、纯碱,油脂在纯碱中可以发生水解生成高级脂肪酸盐,最终可以制得肥皂、食品工业上常用纯碱制作糕点等,纯碱在玻璃、肥皂、食品等工业中都有着广泛的应用,故C正确;
D.焦炭高温还原二氧化硅生成一氧化碳和硅,化学方程式:SiO2+2C备粗硅,要制得高纯度硅,还需要进行提纯,其化学方程式为:SiO2+2CSi+2Cl2故选D。 【点睛】
本题的易错点为A,要注意常见工业生产的原理的记忆;碳与二氧化硅高温下反应生成粗硅,不是纯硅,需要进一步提纯。 4.B 【解析】 【详解】
A. 步骤③,氢气中氢元素化合价升高,氢气作还原剂,故A正确; B. 硅用作计算机“芯片”,二氧化硅不能作计算机“芯片”,故B错误;
C. 步骤①是二氧化硅和碳在高温条件下反应生成硅和一氧化碳,反应的化学方程式为:SiO2+2C=Si+2CO↑,故C正确;
D. 步骤①②③中,都有元素化合价改变,发生的反应都属于氧化还原反应,故D正确; 选B。 5.B 【解析】 【详解】
实验室制取氯气用二氧化锰和浓盐酸在加热条件反应,工业生成氯气常用电解饱和食盐水,故B符合题意。 综上所述所,答案为B。
高温2NaOH+Cl2↑+H2↑,工业上常以电
Si+2CO↑,可制Si+2CO↑、
SiCl4、SiCl4+2H2Si+4HCl,故D错误;
【点睛】
电解熔融氧化铝得到铝,不能电解熔融氯化铝,电解熔融氯化镁得到镁,不能电解熔融氧化镁。 6.D 【解析】 【详解】
A. 普通玻璃的主要成分是:二氧化硅、硅酸钠和硅酸钙,石英玻璃的成分主要为二氧化硅(SiO2),所以二者成分不同,A错误;
B. 玻璃中含有二氧化硅,二氧化硅能和氢氟酸反应生成四氟化硅,而与盐酸不反应,所以工艺师用氢氟酸刻蚀玻璃制作工艺品,B错误;
C. 由石英沙制备单晶硅过程中,硅元素的化合价由+4价变为0价,所以一定涉及氧化还原反应,C错误;
D. 硅是半导体材料,可用于信息存储,能用于制作硅芯片,二氧化硅能用于制造光导纤维,D正确;故答案为:D。 7.C 【解析】 【详解】
A.氯碱工业制氯气是电解饱和食盐水,反应的化学方程式:2NaCl+2H2OCl2↑+H2↑+2NaOH,故A错误;
B.磁铁矿成分为四氧化三铁,反应的化学方程式:4CO+Fe3O4误;
C.工业制小苏打是饱和氯化钠溶液中依次通入氨气、二氧化碳生成碳酸氢钠晶体和氯化铵,反应的化学方程式:NH3+CO2+H2O+NaCl═NaHCO3↓+NH4Cl,故C正确;
D.2C+SiO2工业制粗硅是焦炭和二氧化硅高温反应生成硅和一氧化碳,反应的化学方程式:
通电 高温 3Fe+4CO2,故B错
高温 Si+2CO↑,故D错误;
故选:C。 8.B
【解析】 【分析】 【详解】
A.工业上,用焦炭在电炉中还原二氧化硅SiO2+2C故A正确;
B.生产普通水泥的原料是石灰石和黏土,石灰石、石英和纯碱是制备玻璃的主要原料,故B错误;
C.电解法精炼铜时,粗铜做阳极,连接电源正极,发生氧化反应,故C正确; D.高炉炼铁原理,一氧化碳还原氧化铁生成铁,还原剂为一氧化碳,故D正确。 答案选B。 9.A 【解析】 【详解】
表示单晶硅的是Si,故A正确。 综上所述,答案为A。 【点睛】
硅的主要用途是硅太阳能电池、硅半导体材料,二氧化硅主要用于光导纤维。 10.D 【解析】 【详解】
A.CPU芯片材料为硅,光导纤维材料为SiO2,故A错误; B.工艺师用氢氟酸刻蚀石英,SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O,故B错误; C.水晶的主要成分为SiO2,不是硅酸盐制品,故C错误;
D.由粗硅制备单晶硅发生Si~SiCl4~Si的反应,它们均是氧化还原反应,故D正确; 答案选D。
11.5 1 4 弱于 因为生成物CO为气态,降低CO的浓度,可使平衡正向移动 非极性 小于 HCl等) . 【解析】
Si+2CO↑,得到含少量杂质的粗硅,
2a-b mol/(L?s) 降低压强 升高温度(或及时分离出2t
【详解】
(1)硅原子电子排布式:1s22s22p63s23p2,核外有5种不同能级的电子,当电子排布在同一能级的不同轨道时,基态原子中的电子总是优先占据不同轨道,而且自旋方向相同,最外层的p电子有1种自旋方向;SiO2晶体中每个硅原子与4个氧原子形成4个Si?O共价键;故答案为:5;1;4;
(2)非金属性越强单质的氧化性越强,碳的还原性弱于硅;减少生成物CO的浓度,平衡正向移动;故答案为:弱于;因为生成物CO为气态,降低CO的浓度,可使平衡正向移动; (3)四氯化硅是正四面体结构,SiCl4分子结构对称结构,属于非极性分子;故答案为:正四面体型;非极性;
(4)体积减小,压强增大,平衡正向移动,氯气的物质的量减小,但体积减小更大,浓度增大;故答案为:小于; (5)氯气的反应速率v?Cl2?=?c2a-b?mol?L?1?s?1,?tt12a-bv?SiCl4?=v?Cl2?=mol?L?1?s?1;
22t(6)该反应正向为气体体积增大的反应,降低压强可使平衡正向移动;该反应为吸热反应,升高温度可使反应正向移动;及时分离出HCl,使生成物浓度降低,可使平衡正向移动,故答案为:降低压强;升高温度(或及时分离出HCl等)。
12.CD SiCl4(g)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g)△H=+0.025akJ/mol BC C和Si最外层电子数相同(或“是同主族元素”),C原子半径小于Si(或“C原子电子层数少于Si”) Si元素的非金属性弱于C元素,硅烷的热稳定性弱于甲烷 ac 硅酸钠 硅酸的Ka2小于碳酸的Ka2,硅酸钠更易水解 【解析】 【分析】
(1)根据炼钢的要求把生铁中的含碳量去除到规定范围,并使其它元素的含量减少或增加到规定范围的过程,简单地说,是对生铁降碳、去硫磷、调硅锰含量的过程;在使碳等元素降到规定范围后,钢水中仍含有大量的氧元素,是有害的杂质,使钢塑性变坏,轧制时易产生裂纹;
a(2)每生成1.12kg纯硅需吸收akJ热量,则生成1mol纯硅吸收的热量为1.12?103=0.025akJ,
28据此写出反应热化学方程式; A.强酸的钠盐不水解;
B.硅的卤化物(SiX4)是由非金属元素原子间通过共用电子对形成的化合物; C.离子晶体的熔点大于分子晶体的熔点; D.SiF4晶体属于分子晶体;
(3)硅烷的分解温度远低于甲烷的原因为:C和Si最外层电子数相同(或“是同主族元素”),C原子半径小于Si(或“C原子电子层数少于Si”) Si元素的非金属性弱于C元素,硅烷的热稳定性弱于甲烷;
(4)a.因为随着温度的升高,SiHCl3的转化率增大,平衡右移,则该反应的平衡常数随温度升高而增大;
b.增大一种反应物的浓度,能提高其它反应物的转化率,而本身的转化率反而降低,故横
n?H2?坐标表示的投料比应该是;
n?SiHCl3?c.降低压强平衡向气体系数减小方向移动; (5)依据盐类水解规律“越弱越水解”解答。 【详解】
(1)炼钢的要求把生铁中的含碳量去除到规定范围,并使其它元素的含量减少或增加到规定范围的过程,简单地说,是对生铁降碳、去硫磷、调硅锰含量的过程,这一过程基本上是一个氧化过程,是用不同来源的氧(如空气中的氧、纯氧气、铁矿石中的氧)来氧化铁水中的碳、硅、锰等元素.化学反应主要是2FeO+Si
高温2Fe+SiO2、FeO+Mn
高温Fe+MnO;
在使碳等元素降到规定范围后,钢水中仍含有大量的氧,是有害的杂质,使钢塑性变坏,轧制时易产生裂纹,故炼钢的最后阶段必须加入脱氧剂(例如锰铁、硅铁和铝等),以除去钢液Mn+FeO中多余的氧:故答案选CD;
高温MnO+Fe,Si+2FeO
高温SiO2+2Fe,2Al+3FeO
高温Al2O3+3Fe,
高中化学复习知识点:硅的制备
![](/skin/haowen/images/icon_star.png)
![](/skin/haowen/images/icon_star.png)
![](/skin/haowen/images/icon_star.png)
![](/skin/haowen/images/icon_star.png)