B．电解饱和食盐水阳极氯离子失电子发生氧化反应生成氯气，阴极氢离子得到电子发生还原反应生成氢气，反应的化学方程式为2NaCl+2H2O解饱和食盐水为基础制取氯气，故B正确；
C．制普通玻璃的原料：石英砂、石灰石、纯碱，油脂在纯碱中可以发生水解生成高级脂肪酸盐，最终可以制得肥皂、食品工业上常用纯碱制作糕点等，纯碱在玻璃、肥皂、食品等工业中都有着广泛的应用，故C正确；
D．焦炭高温还原二氧化硅生成一氧化碳和硅，化学方程式：SiO2+2C备粗硅，要制得高纯度硅，还需要进行提纯，其化学方程式为：SiO2+2CSi+2Cl2故选D。 【点睛】
本题的易错点为A，要注意常见工业生产的原理的记忆；碳与二氧化硅高温下反应生成粗硅，不是纯硅，需要进一步提纯。 4．B 【解析】 【详解】
A. 步骤③，氢气中氢元素化合价升高，氢气作还原剂，故A正确； B. 硅用作计算机“芯片”，二氧化硅不能作计算机“芯片”，故B错误；
C. 步骤①是二氧化硅和碳在高温条件下反应生成硅和一氧化碳，反应的化学方程式为：SiO2+2C=Si+2CO↑，故C正确；
D. 步骤①②③中，都有元素化合价改变，发生的反应都属于氧化还原反应，故D正确； 选B。 5．B 【解析】 【详解】
实验室制取氯气用二氧化锰和浓盐酸在加热条件反应，工业生成氯气常用电解饱和食盐水，故B符合题意。 综上所述所，答案为B。
高温2NaOH+Cl2↑+H2↑，工业上常以电
Si+2CO↑，可制Si+2CO↑、
SiCl4、SiCl4+2H2Si+4HCl，故D错误；
【点睛】
电解熔融氧化铝得到铝，不能电解熔融氯化铝，电解熔融氯化镁得到镁，不能电解熔融氧化镁。 6．D 【解析】 【详解】
A. 普通玻璃的主要成分是：二氧化硅、硅酸钠和硅酸钙，石英玻璃的成分主要为二氧化硅（SiO2），所以二者成分不同，A错误；
B. 玻璃中含有二氧化硅，二氧化硅能和氢氟酸反应生成四氟化硅，而与盐酸不反应，所以工艺师用氢氟酸刻蚀玻璃制作工艺品，B错误；
C. 由石英沙制备单晶硅过程中，硅元素的化合价由+4价变为0价，所以一定涉及氧化还原反应，C错误；
D. 硅是半导体材料，可用于信息存储，能用于制作硅芯片，二氧化硅能用于制造光导纤维，D正确；故答案为：D。 7．C 【解析】 【详解】
A．氯碱工业制氯气是电解饱和食盐水，反应的化学方程式：2NaCl+2H2OCl2↑+H2↑+2NaOH，故A错误；
B．磁铁矿成分为四氧化三铁，反应的化学方程式：4CO+Fe3O4误；
C．工业制小苏打是饱和氯化钠溶液中依次通入氨气、二氧化碳生成碳酸氢钠晶体和氯化铵，反应的化学方程式：NH3+CO2+H2O+NaCl═NaHCO3↓+NH4Cl，故C正确；
D．2C+SiO2工业制粗硅是焦炭和二氧化硅高温反应生成硅和一氧化碳，反应的化学方程式：
通电 高温 3Fe+4CO2，故B错
高温 Si+2CO↑，故D错误；
故选：C。 8．B
【解析】 【分析】 【详解】
A．工业上，用焦炭在电炉中还原二氧化硅SiO2+2C故A正确；
B．生产普通水泥的原料是石灰石和黏土，石灰石、石英和纯碱是制备玻璃的主要原料，故B错误；
C．电解法精炼铜时，粗铜做阳极，连接电源正极，发生氧化反应，故C正确； D．高炉炼铁原理，一氧化碳还原氧化铁生成铁，还原剂为一氧化碳，故D正确。 答案选B。 9．A 【解析】 【详解】
表示单晶硅的是Si，故A正确。 综上所述，答案为A。 【点睛】
硅的主要用途是硅太阳能电池、硅半导体材料，二氧化硅主要用于光导纤维。 10．D 【解析】 【详解】
A．CPU芯片材料为硅，光导纤维材料为SiO2，故A错误； B．工艺师用氢氟酸刻蚀石英，SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O，故B错误； C．水晶的主要成分为SiO2，不是硅酸盐制品，故C错误；
D．由粗硅制备单晶硅发生Si～SiCl4～Si的反应，它们均是氧化还原反应，故D正确； 答案选D。
11．5 1 4 弱于 因为生成物CO为气态，降低CO的浓度，可使平衡正向移动 非极性 小于 HCl等） ． 【解析】
Si+2CO↑，得到含少量杂质的粗硅，
2a-b mol/（L?s） 降低压强 升高温度（或及时分离出2t
【详解】
（1）硅原子电子排布式：1s22s22p63s23p2，核外有5种不同能级的电子，当电子排布在同一能级的不同轨道时，基态原子中的电子总是优先占据不同轨道，而且自旋方向相同，最外层的p电子有1种自旋方向；SiO2晶体中每个硅原子与4个氧原子形成4个Si?O共价键；故答案为：5；1；4；
（2）非金属性越强单质的氧化性越强，碳的还原性弱于硅；减少生成物CO的浓度，平衡正向移动；故答案为：弱于；因为生成物CO为气态，降低CO的浓度，可使平衡正向移动； （3）四氯化硅是正四面体结构，SiCl4分子结构对称结构，属于非极性分子；故答案为：正四面体型；非极性；
（4）体积减小，压强增大，平衡正向移动，氯气的物质的量减小，但体积减小更大，浓度增大；故答案为：小于； （5）氯气的反应速率v?Cl2?=?c2a-b?mol?L?1?s?1，?tt12a-bv?SiCl4?=v?Cl2?=mol?L?1?s?1；
22t（6）该反应正向为气体体积增大的反应，降低压强可使平衡正向移动；该反应为吸热反应，升高温度可使反应正向移动；及时分离出HCl，使生成物浓度降低，可使平衡正向移动，故答案为：降低压强；升高温度(或及时分离出HCl等)。
12．CD SiCl4(g)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g)△H=+0.025akJ/mol BC C和Si最外层电子数相同(或“是同主族元素”)，C原子半径小于Si(或“C原子电子层数少于Si”) Si元素的非金属性弱于C元素，硅烷的热稳定性弱于甲烷 ac 硅酸钠 硅酸的Ka2小于碳酸的Ka2，硅酸钠更易水解 【解析】 【分析】
(1)根据炼钢的要求把生铁中的含碳量去除到规定范围，并使其它元素的含量减少或增加到规定范围的过程，简单地说，是对生铁降碳、去硫磷、调硅锰含量的过程；在使碳等元素降到规定范围后，钢水中仍含有大量的氧元素，是有害的杂质，使钢塑性变坏，轧制时易产生裂纹；
a(2)每生成1.12kg纯硅需吸收akJ热量，则生成1mol纯硅吸收的热量为1.12?103=0.025akJ，
28据此写出反应热化学方程式； A．强酸的钠盐不水解；
B．硅的卤化物（SiX4）是由非金属元素原子间通过共用电子对形成的化合物； C．离子晶体的熔点大于分子晶体的熔点； D．SiF4晶体属于分子晶体；
(3)硅烷的分解温度远低于甲烷的原因为：C和Si最外层电子数相同（或“是同主族元素”），C原子半径小于Si（或“C原子电子层数少于Si”） Si元素的非金属性弱于C元素，硅烷的热稳定性弱于甲烷；
(4)a．因为随着温度的升高，SiHCl3的转化率增大，平衡右移，则该反应的平衡常数随温度升高而增大；
b．增大一种反应物的浓度，能提高其它反应物的转化率，而本身的转化率反而降低，故横
n?H2?坐标表示的投料比应该是；
n?SiHCl3?c．降低压强平衡向气体系数减小方向移动； (5)依据盐类水解规律“越弱越水解”解答。 【详解】
(1)炼钢的要求把生铁中的含碳量去除到规定范围，并使其它元素的含量减少或增加到规定范围的过程，简单地说，是对生铁降碳、去硫磷、调硅锰含量的过程，这一过程基本上是一个氧化过程，是用不同来源的氧(如空气中的氧、纯氧气、铁矿石中的氧)来氧化铁水中的碳、硅、锰等元素．化学反应主要是2FeO+Si
高温2Fe+SiO2、FeO+Mn
高温Fe+MnO；
在使碳等元素降到规定范围后，钢水中仍含有大量的氧，是有害的杂质，使钢塑性变坏，轧制时易产生裂纹，故炼钢的最后阶段必须加入脱氧剂(例如锰铁、硅铁和铝等)，以除去钢液Mn+FeO中多余的氧：故答案选CD；
高温MnO+Fe，Si+2FeO
高温SiO2+2Fe，2Al+3FeO
高温Al2O3+3Fe，
高中化学复习知识点：硅的制备
