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纳米金属颗粒—绝缘体膜制备的研究

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纳米金属颗粒—绝缘体膜制备的研究

赵子强;韦伦存

【期刊名称】《功能材料》 【年(卷),期】1996(027)006

【摘要】本文介绍了一台利用磁控溅射产生金属团簇,同时蒸发绝缘介质得到金属颗粒-绝缘体包埋团簇的设备,并利用该设备成功地制备出了Cu:CaF2和Ti:CaF2等金属颗粒膜。该设备适应性广,可产生几乎所有固体金属和半导体团簇。从而可以得到众多组合的功能膜。包埋在绝缘体中的团簇大小在10nm-70nm之间,为多晶结构;基质CaF2也为多晶。 【总页数】2页(534-535)

【关键词】包埋团簇;晶体结构;金属粒;薄膜 【作者】赵子强;韦伦存

【作者单位】北京大学技术物理系重离子物理研究所;北京大学技术物理系重离子物理研究所 【正文语种】英文 【中图分类】O484.1 【相关文献】

1.纳米颗粒铜膜的制备和光学性能观测 [J], 李强勇; 黄良甫

2.纳米尺寸的C60-Cu颗粒膜的制备和形貌研究 [J], 李祥; 侯建国; 吴自勤 3.溶胶-凝胶法制备多孔纳米金属铜膜 [J], 李明愉; 曾庆轩; 张慧君; 冯长根 4.金属-绝缘体颗粒膜的巨霍尔效应研究进展 [J], 郝身芬; 王良民; 张兆刚; 余天; 李杏清; 李定国; 陈鹏

5.金属-绝缘体颗粒膜隧穿磁电阻效应的修正理论 [J], 张培明; 郑立波; 王长征; 肖效光

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纳米金属颗粒—绝缘体膜制备的研究

纳米金属颗粒—绝缘体膜制备的研究赵子强;韦伦存【期刊名称】《功能材料》【年(卷),期】1996(027)006【摘要】本文介绍了一台利用磁控溅射产生金属团簇,同时蒸发绝缘介质得到金属颗粒-绝缘体包埋团簇的设备,并利用该设备成功地制备出了Cu:CaF2和Ti:CaF2等金属颗粒膜。该设备适应性广,可产生几乎所有固体金属和半导体团簇
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