利用水溶性氧化剂的碳化硅抛光方法

（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）发明专利说明书

（21）申请号 CN200780032800.X （22）申请日 2007.09.04 （71）申请人 卡伯特微电子公司

地址 美国伊利诺伊州

（10）申请公布号 CN101512732B

（43）申请公布日 2011.05.18

（72）发明人 马克施·德赛;凯文·莫根伯格;菲利普·卡特 （74）专利代理机构 北京市柳沈律师事务所

代理人 宋莉

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

利用水溶性氧化剂的碳化硅抛光方法

（57）摘要

本发明的方法包括用包含液体载体、

研磨剂及氧化剂的抛光组合物对包含至少一层碳化硅的基板进行化学机械抛光。 法律状态

法律状态公告日

2009-08-19 2009-08-19 2009-10-14 2009-10-14 2011-05-18 2011-05-18 2024-08-21

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权 授权 专利权的终止

法律状态信息

公开 公开

法律状态

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权利要求说明书

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说明书

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