大尺寸物理气相沉积系统技术参数
真空室
1. *有效镀膜容积不小于：D400mm × H400 mm。 2. 有可拆卸衬板，衬板与炉膛便于清洁。
3. 炉体安装至少一个观察窗口，便于原位可视化监测镀膜过程。 4. *真空室进气不少于4路，气体类型：氮气、氩气、甲烷（或乙炔）。 5. *自带至少两套样品转架，转架可公转、自转。每个样品可自转。 真空系统
6. *极限真空：优于5.0 × 10-4 Pa。 7. *工作真空：优于5.0 × 10-3 Pa。
8. *抽气时间：真空室由大气压抽至3.0 × 10-3 Pa不多于30分钟。 9. *压升率：优于0.5 Pa/小时。 靶、电源
10. *至少6个电弧靶与1个离子源。 11. *配置与靶对应的电弧源与电源。 12. 随机附带多种金属与合金靶材。 加热系统
13. 加热功率不小于10 kW。
14. *加热温度范围不小于20~500 oC。 15. 控温精度小于±2 oC。 16. *提供可靠的测温方案。 随机工艺
17. 不少于4套镀膜工艺。
18. *必备工艺：TiN、CrN、AlTiN、AlCrN。 19. *工艺时长不超过5小时。
20. *单次工艺工件镀膜厚度不小于3微米。
工艺软件
21. *可视化操作面板，操作界面友好、简洁。 22. *具备一键式工艺集成功能。 23. *具备单条工艺密码保护功能。 整机：
24. 工作环境：220V/单相。
25. 整体占地小于L2500mm × W2500mm × H2500 mm 26. *至少两台样品架推车，方便装卸样品架。
27. *质保要求：保质期大于24个月。保质期内，如果设备出现故障，供方需在5个工作日
内派专人到现场处理，费用由供方承担。保质期后，如果设备出现故障，供方需在5个工作日内派专人到现场处理，费用由双方协商。
28. 操作方式：即开即用、方便快捷，人性化设置，设备具有安全保护设计。 29. 耗材配置：说明书及配件齐全，满足一年使用量。 30.
大尺寸物理气相沉积系统技术参数
