湿电子化学品项目可行性研究报告-2020年最新版本

湿电子化学品项目可行性研究报告

-2020年最新版本

编制单位：北京智博睿投资咨询有限公司

1、湿电子化学品需求未来4年复合增速有望达 5.7%。 湿电子化学品指微电子、光电子湿法工艺制程中使用的各种电子化工材料，主要用于芯片、显示器面板、电池板等的清洗、蚀刻、显影、去膜、掺杂等。湿电子化学品主要包括超净高纯试剂（超净高纯试剂在国际上也称工艺化学品（Process Chemicals），美国、欧洲和我国台湾地区称为湿化学品（Wet Chemicals））、光刻胶配套试剂（光刻胶配套试剂内容在“光刻胶及配套材料”部分讨论）等。湿电 子化学品是对使用于湿法工艺的“电子级试剂”、“超净高纯化学试剂”的更为合理准确的表达。

超净高纯试剂的尘埃颗粒粒径需控制在 0.5μm 以下，杂质含量需控制在 ppm 级（10-6为 ppm），是化学试剂中对颗粒粒径控制、杂质含量要求最高的试剂。常见产品有超净高纯酸及碱类、超净高纯有机溶剂和超净高纯蚀刻剂。光刻胶配套试剂指光刻工艺中所涉及到的电子化学品，包括稀释剂、显影液、漂洗液、剥离液等，光刻胶配套试剂与光刻胶配套使用。