（19）中华人民共和国国家知识产权局
（12）发明专利申请
（21）申请号 CN03801404.1 （22）申请日 2003.03.19
（71）申请人 财团法人地球环境产业技术研究机构;独立行政法人产业技术总合研究所
地址 日本京都
（10）申请公布号 CN1579011A （43）申请公布日 2005.02.09
（72）发明人 坂井克夫;大仓诚司;坂村正二;安部薰;村田等;和仁悦夫;龟田贤治;三井有规;大平丰;米村泰辅;関屋章
（74）专利代理机构 上海专利商标事务所
代理人 朱黎明
（51）Int.CI
H01L21/205; H01L21/31; C23C16/44;
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
CVD设备以及使用CVD设备清洗CVD设备的方法
（57）摘要
本发明的目的是提供一种CVD设备中的清
洗方法，它能够有效地除去副产物如SiO
法律状态
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
法律状态公告日
2005-02-09 2005-02-09 2005-02-09 2005-04-13 2005-04-13 2005-04-13 2006-10-25 2006-10-25 2006-10-25 2006-10-25 2006-10-25 2008-04-30 2008-04-30 2008-04-30 2019-11-26
法律状态信息
公开 公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 实质审查的生效
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 授权 授权 授权
专利申请权、专利权的转移
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公开 公开 公开
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专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
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权利要求说明书
CVD设备以及使用CVD设备清洗CVD设备的方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看
CVD设备以及使用CVD设备清洗CVD设备的方法
