（电子行业企业管理）微电子级课程标准

由天下分享时间：2024/9/13 16:24:12 加入收藏我要投稿点赞

知识目标： 1、了解热氧化生长动力学； 2、理解决定氧化速率的各种因素、热氧化过程中的杂质再氧化技术分布； 3、掌握Si02、性质、用途、热氧化方法。能力目标： 1掌握Si02、性质、用途、热氧化方法。知识目标： 1、理解扩散原理、杂质浓度分布机理； 2、掌握扩散类型、常用杂质的扩散方法、结深与方块电阻的测量。能力目标：掌握扩散类型、常用杂质的扩散方法、结深与方块电阻的测量。知识目标： 1、理解光刻胶性能、光刻技术； 2、掌握光刻胶种类。能力目标：掌握光刻胶种类。知识目标： 1、Si02的结构、性质、用途； 2、Si02掩蔽作用； 3、热氧化； 4、热氧化生长动力学； 5、决定氧化速率的各种因素； 6、热氧化过程中的杂质再分布。 6 教学方法：讲解法自主学习法资源利用：自编讲义、课件、网络资源将自主学习能力、基础知识的运用能力、问题分析多媒体教室能力等纳入过程考核，具（黑板、课件、动画、体可根据课堂提问、辅导视频）答疑和作业完成情况进行阶段性考核评价。扩散技术 1、扩散机构； 2、杂质浓度分布； 3、常用杂质的扩散方法； 6 4、结深与方块电阻的测量。教学方法：讲解法自主学习法资源利用：自编讲义、课件、网络资源将自主学习能力、基础知识的运用能力、问题分析多媒体教室能力等纳入过程考核，具（黑板、课件、动画、体可根据课堂提问、辅导视频）答疑和作业完成情况进行阶段性考核评价。光刻技术 1、概述； 2、光刻胶及特性； 3、光刻技术。 6 教学方法：讲解法自主学习法资源利用：自编讲义、课件、网络资源教学方法：将自主学习能力、基础知识的运用能力、问题分析多媒体教室能力等纳入过程考核，具（黑板、课件、动画、体可根据课堂提问、辅导视频）答疑和作业完成情况进行阶段性考核评价。多媒体教室将自主学习能力、基础知刻蚀 1、VLSI对图形转移的要求6 11

1、了解反应离子刻蚀与离子束刻蚀； 2、理解VLSI对图形转移的要求和刻蚀方法； 3、掌握等离子刻蚀。能力目标：掌握等离子刻蚀。知识目标： 1、理解注入离子的浓度分布与退火； 2、掌握离子注入设备、离子离子注入注入的特点与应用。能力目标：掌握离子注入设备、离子注入的特点与应用。知识目标： 1、理解CVD化学过程、生长动力学、CVD淀积系统； 2、掌握化学气相淀积概念、薄膜分类。能力目标：掌握化学气相淀积概念、薄膜分类。知识目标： 1、理解金属化工艺作用； 2、掌握金属化薄膜的制备方法及金属化互连技术。能力目标：和刻蚀方法； 2、等离子刻蚀； 3、反应离子刻蚀与离子束刻蚀。讲解法自主学习法资源利用：自编讲义、课件、网络资源（黑板、课件、动画、识的运用能力、问题分析视频）能力等纳入过程考核，具体可根据课堂提问、辅导答疑和作业完成情况进行阶段性考核评价。 1、离子注入设备； 2、注入离子的浓度分布与退火； 6 3、离子注入的特点与应用。教学方法：讲解法自主学习法资源利用：自编讲义、课件、网络资源教学方法：讲解法自主学习法资源利用：自编讲义、课件、网络资源教学方法：讲解法自主学习法资源利用：自编讲义、课件、将自主学习能力、基础知识的运用能力、问题分析多媒体教室能力等纳入过程考核，具（黑板、课件、动画、体可根据课堂提问、辅导视频）答疑和作业完成情况进行阶段性考核评价。化学气相淀积CVD 1、 CVD化学过程及薄膜分类； 2、生长动力学； 3、CVD淀积系统。 2 将自主学习能力、基础知识的运用能力、问题分析多媒体教室能力等纳入过程考核，具（黑板、课件、动画、体可根据课堂提问、辅导视频）答疑和作业完成情况进行阶段性考核评价。将自主学习能力、基础知多媒体教室识的运用能力、问题分析（黑板、课件、动画、能力等纳入过程考核，具视频）体可根据课堂提问、辅导答疑和作业完成情况进金属化 1、概述； 2、金属化薄膜制备； 3、金属化互连技术。 2 12

掌握金属化薄膜的制备方法及金属化互连技术。知识目标： 1、理解SI-SI02系统结构及作用、钝化膜结构； 2、掌握钝化方法。能力目标：掌握钝化方法。知识目标： 1、了解电阻结构、电容结构、接触控、通控、连线； 2、理解双极性三极管结构、MOS场效应管结构； 3、掌握二极管结构。能力目标：掌握二极管结构。知识目标： 1、理解集成电路制造工艺流程； 2、掌握二极管在实验室中的制作过程。能力目标：掌握二极管在实验室中的制作过程。知识目标： 1、理解真空、真空泵； 1、概述； 2、SI-SI02系统； 3、钝化方法； 4、钝化膜结构。网络资源教学方法：讲解法自主学习法资源利用：自编讲义、课件、网络资源教学方法：讲解法自主学习法资源利用：自编讲义、课件、网络资源教学方法：讲解法自主学习法资源利用：自编讲义、课件、网络资源教学方法：讲解法行阶段性考核评价。表面钝化 2 将自主学习能力、基础知识的运用能力、问题分析多媒体教室能力等纳入过程考核，具（黑板、课件、动画、体可根据课堂提问、辅导视频）答疑和作业完成情况进行阶段性考核评价。电学隔离技术 1、二极管结构； 2、双极性三极管结构； 3、MOS场效应管结构结构； 4、电阻结构； 2 5、电容结构； 6、接触控、通控、连线。将自主学习能力、基础知识的运用能力、问题分析多媒体教室能力等纳入过程考核，具（黑板、课件、动画、体可根据课堂提问、辅导视频）答疑和作业完成情况进行阶段性考核评价。集成电路制造工艺流程 1、典型双极性集成电路工艺； 2、CMOS集成电路工艺。 2 将自主学习能力、基础知识的运用能力、问题分析多媒体教室能力等纳入过程考核，具（黑板、课件、动画、体可根据课堂提问、辅导视频）答疑和作业完成情况进行阶段性考核评价。多媒体教室将自主学习能力、基础知（黑板、课件、动画、识的运用能力、问题分析真空的获得与设备 1、真空； 2、真空泵； 2 13

2、掌握残气分析器、工艺腔的玷污类型。能力目标：掌握残气分析器、工艺腔的玷污类型。 3、工艺腔内的气流； 4、残气分析器； 5、等离子体； 6、工艺腔的玷污。自主学习法资源利用：自编讲义、课件、网络资源视频）能力等纳入过程考核，具体可根据课堂提问、辅导答疑和作业完成情况进行阶段性考核评价。 14

七、考核方式、方法

1.考核方式

本课程考核采用形成性考核和期末考试相结合的方式。形成性考核指平时作业、课堂考勤、课堂讨论和期中考试等，占学期总成绩的30％；期末考试占学期总成绩的70％。2．考核方法

本课程的理论考核采用开卷考试的考核方法。

八、教学基本条件

1.对教师的基本要求

教师应为电类相关专业本科以上学历，从事过相关课程的教学或实训教学工作，具有较强的语言表达能力及职业教学方法的能力。

2.教学硬件环境基本要求

环境整洁的多媒体教室及其多媒体配套设备。 3.教学资源基本要求

（1）具有内容丰富，思路清晰的自编讲义；

（2）完善的网络教学资源，如学院的网络课程中包含相应的计划、详细讲义、PPT课件、课程动画媒体库、在线练习及课程BBS方便教师与学生的教学沟通。