一种MEMS麦克风的加工方法和MEMS麦克风

（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN202010183704.2 （22）申请日 2020.03.16 （71）申请人 歌尔微电子有限公司

地址 266101 山东省青岛市崂山区松岭路396号103室

（10）申请公布号 CN111491244A

（43）申请公布日 2020.08.04

（72）发明人 王喆;邹泉波;邱冠勋;吴立德

（74）专利代理机构 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人 柳岩

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

一种MEMS麦克风的加工方法和MEMS麦克风

（57）摘要

本发明公开了一种MEMS麦克风的加工方

法和MEMS麦克风。包括：在衬底之上沉积多晶硅基准层；从多晶硅基准层一侧，对多晶硅基准层进行干法刻蚀，在多晶硅基准层上形成基准孔；在多晶硅基准层上沉积第一牺牲层；在第一牺牲层上沉积多晶硅振膜层，多晶硅振膜层具有悬空部；在多晶硅振膜层上沉积第二牺牲层，第二牺牲层在悬空部的外围与第一牺牲层连接；在第二牺牲层上沉积氮化硅层；从衬底一侧，对衬底和

二氧化硅保护层进行刻蚀形成第一空腔，第一空腔暴露基准孔；在第一空腔一侧，从基准孔对位于悬空部周围的第一牺牲层和第二牺牲层进行湿法刻蚀，在多晶硅基准层与氮化硅层之间形成第二空腔；多晶硅振膜层的悬空部悬于第二空腔中。

法律状态

法律状态公告日2020-08-04 2020-08-04 2020-08-28

法律状态信息

公开 公开

实质审查的生效

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权利要求说明书

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