2018年中国市场CMP抛光液发展研究报告

2018年中国市场CMP抛光液发展

研究报告

2018年中国市场CMP抛光液发展研究报告

CMP 抛光液又叫 CMP 研磨液，或 CMP 磨料，是平坦化工艺中研磨材料和化学添加剂的混合物，CMP 抛光液一般由超细固体粒子研磨剂(如纳米级 SiO2、Al2O3粒子等)、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等组成。固体粒子提供研磨作用，化学氧化剂提供腐蚀溶解作用。

抛光液的主要用途为：用于各类集成电路、蓝宝石及其他领域等的抛光过程，是用来辅助抛光、保护硅片免受划伤的一种必备化学耗材。 表2013-2025年中国不同应用领域CMP抛光液产量对比 半导体/集成电路 蓝宝石/LED行业 其他领域 合计

图2017年中国不同应用领域CMP抛光液产量中国市场份额

2013 76 40 10 126 2017 285 210 43 538 2025 3210 782 108 4100 CAGR(2018-2025) 26.7% 17.8% 12.6% 24.0% 资料来源：专家采访,第三方资料以及恒州博智化学与材料研究中心，2018年6月 2017 7.92% 39.09% 52.99% 半导体/集成电路 蓝宝石/LED行业 其他领域 资料来源：专家采访,第三方资料以及恒州博智化学与材料研究中心，2018年6月

生产端来看

在高端半导体领域，国内厂商目前主要是安集微电子一家，公司客户遍及除大陆之外的美国、欧洲、新加坡、马来西亚、台湾等地区，其中包括数家全球知名的晶圆制造企业如，中芯国际、台积电和Intel等。半导体用CMP抛光液技术壁垒高，市场集中度极高，高端产品主要被日美企业垄断。

在中低端领域已基本国产化。国内厂商如上海新安纳电子科技有限公司，湖北海力天恒纳米科技有限公司，深圳市力合材料有限公司，湖南皓志科技股份有限公司，无锡易洁工业介质有限公司等，占有重要地位。

2017年中国CMP抛光液产量达到了538万升，预计2025年将达到4100万升；2017年产值为1.37亿元，预计2025年达到10亿元，2018-2025年复合增长率为21.9%。

从消费端来看

国内市场芯片用抛光液主要由Cabot Microelectronics、Dow Electronic Materials、Fujimi Incorporated、Air Products/Versum Materials、Fujifilm、Hitachi Chemical和安集微电子等主导。中低端市场，蓝宝石抛光液等主要由国内公司主导。

2017年中国CMP抛光液消费量达到了2137万升，预计2025年将达到9653万升。