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温度场均流解决措施

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温度场均流措施

1 温度场不均流的原因

1.1 温度场不均流的原因

1. 工艺设备周围局部温度不均匀

2. 外墙气密不佳,造成室内温湿度波动问题 3. 负荷设计不够合理,高发热区域温度偏高

2 温度场不均流的控制措施

2.1 温度场均流控制措施一

? 工艺设备周围局部温度不均匀

? 原因分析:设备位于门附近,当门打开时,气流瞬间向门的方向流动,设备周围气流增多,气温降低,造成敏感设备的温度波动。

? 解决措施:设备及隔间的平面布置位置设计时,应避免在敏感设备附件开门,利用CFD对设备周围的气流进行模拟分析。

2.2 温度场均流控制措施二

? 外墙气密不佳及恶劣天气,造成室内温湿度波动

? 原因分析:建筑墙体接缝处未做气密性或气密性不佳,造成外气泄露,尤其是在大风天气、台风期或其它极端天气时,室内温湿度波动较大,影响生产

? 解决措施:首先,在管理上应监督施工班组做好墙体气密性工作;其次,在设计阶段应在洁净室靠外墙内侧,增加一道墙板以增加气密性。

2.3 温度场均流控制措施三

? 洁净室负荷设计不合理,造成高发热区域温度偏高室内温湿度不均一的主要原因;

? 原因分析:发热量大的工艺设备区域,如CVD、PVD区域,FFU风量及DCC冷负荷设计可能偏低,会造成这些区域温度偏高;

? 解决措施:依据空调负荷计算,布置干盘管针对以下区域可增加干盘管的冷负荷:CVD、PVD区域建议≥720w/m2,FFU布置率30%以上。

温度场均流解决措施

温度场均流措施1温度场不均流的原因1.1温度场不均流的原因1.工艺设备周围局部温度不均匀2.外墙气密不佳,造成室内温湿度波动问题3.负荷设计不够合理,高发热区域温度偏高2温度场不均流的控制措施2.1温度场均流控制措施一?工艺设备周围局部温度
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