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偏光片知识讲座 第四讲 偏光片的结构和制造-精选文档

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净区或生产区与非生产区部分,为管理人员或参观人员提供方便。

(10)层流罩――层流罩是一种可提供局部高清洁环境的空气净化设备,它主要有箱体、风机、初效空气过滤器、高效空气过滤器、阻尼层、灯具等组成,箱体喷塑或采用不锈钢材料。 (11)空气洁净度等级标准――经济和科技发达的国家和地区都有自己的空气洁净标准和规范标准,都规定了有关的洁净度等级,我国于1984年颁布《洁净厂房设计规范》(GBJ73-84),规定的洁净度等级按每立方米空气中含0.5 m尘埃颗粒数分百级、千级、万级和十万级几个等级,等级数越小洁净等级越高,在TFT-LCD生产线和半导体集成电路生产线以及生物制药等都有几个关键工艺岗位,如光刻岗位,要求在百级洁净等级,几乎是“无人区”,因为操作人员本身就是“污染源”,百级区通常都是小范围区域,偏光片生产车间应在千级标准。 (12)洁净车间行为规范――生产操作员工进入洁净车间要严格遵守洁净厂房管理规范,穿着洁净服,戴口罩手套,使用的工具用具都必须是不产生灰尘的。人员还要符合无传染病、无过敏症、分泌物少、无闭所恐惧症、无不良卫生习惯等条件。洁净车间要定期做卫生保洁等。 3.2 生产设备

偏光片生产设备都是自动化的生产线,主要有TAC预处理、PVA拉伸复合、涂布复合设备,由PVA开卷、水洗膨润槽、染色

槽、拉伸槽、固色槽、水洗槽、PVA烘干、TAC复合、偏光片干燥、收卷等环节组成。PVA膜经过水洗、膨润、染色、拉伸、补色、烘干后,上下两侧各复合一层经过预处理的TAC膜,然后干燥、收卷,形成偏光片原板后,按产品需求涂布复合保护膜、反射膜、半透半反胶层膜形成偏光片。

(1)TAC预处理设备――TAC预处理设备是多个大型溶液槽,槽内槽外都装配有多个带动薄膜移动的比较粗的辊轴。TAC预处理是将TAC膜碱洗、中和、水洗、烘干收卷,以提高TAC表面张力,保证下道工序的复合粘牢度。

(2)PVA拉伸复合设备――PVA拉伸复合设备也是多个大型溶液槽,槽内槽外都装配有带动薄膜移动的比较粗的辊轴,而且有的辊轴还呈弓形。PVA拉伸复合是将PVA膜经水洗、膨润、染色、洗净、拉伸、补色、烘干,然后在PVA膜上下两面各复合一层TAC膜,然后干燥、收卷,形成偏光片原片。

(3)涂布复合设备――涂布复合设备是由滴注胶体管道和多个匀胶转印辊轴以及压合辊轴等组成,涂布复合是在特定功能膜上涂布一定厚度的压敏胶,经干燥后,与偏光片原片进行复合,再复合保护膜,最后收卷,由此形成偏光片成品。

(4)电控系统――电控系统是程控器系统,偏光片制造生产线是自动化控制的,要采用程控器完成整机控制,各个设备都有传感器、显示器、计算机监控。 4 偏光片的制造工艺

4.1 工艺分类

偏光片的制作主要有延伸法及涂布法,延伸法是目前的主流工艺。目前,生产技术以PVA膜的延伸工艺划分,有干法和湿法两大类;以PVA膜染色方法划分,有碘染色和染料染色两大类。 干法拉伸工艺是指先在一定温度、湿度的条件下,在隋性气体环境中将PVA膜拉伸到一定倍率,而后进行染色、固色、复合、干燥等制备工艺;湿法拉伸工艺是指PVA膜先进行染色,而后在溶液中进行拉伸、固色、复合、干燥的生产方法。湿法拉伸的拉伸倍率较易提高、着色均匀。过去存在PVA膜在液体中较难控制延伸的稳定性,即生产条件不易控制,在制作过程中较易产生断膜,同时膜收缩率大,产率较低等问题。随着工艺技术的不断改进,目前已克服了幅宽等限制,工艺条件也得到优化,采用湿法拉伸工艺制作的偏光片,在色调均匀性和耐久性方面均优于干法拉伸工艺。干法拉伸虽具有可使用较大幅宽的PVA膜进行加工、生产效率较高等优点,但对偏光片的色调均匀性和耐久性有影响,易产生延伸不匀及造成膜表面粗糙等弊端。日、韩、台湾和大陆偏光片制作厂家均采用湿法拉伸工艺,湿法拉伸工艺技术已成为全球LCD用偏光片生产的基本生产工艺技术。 偏光片生产工艺中的染色方法有碘染色法和染料染色法两种工艺。碘染色法是指在偏光片染色、拉伸过程中,使用碘和碘化钾作为二向性介质,使PVA膜产生极性化偏光特性。这种染色方法的优点是比较容易获得99.9%以上高偏光度和42%以上高透

过率的偏光特性,所以在早期需要高偏光、高透过特性的偏光材料产品中大多都采用碘染色工艺进行加工。但这种工艺的不足之处是由于碘的分子结构在高温高湿的条件下易于破坏,因此使用碘染色工艺生产的偏光片耐久性较差。

随着LCD产品使用范围的扩大,对偏光产品湿热工作条件的要求越来越苛刻,已经出现要求在100℃和90%RH条件下工作的偏光片产品需求,对这种工作条件要求,碘染色工艺无法满足。为满足这种技术要求,首先由日本化药公司发明了偏光片生产所需的染料,并由日本化药的子公司日本波拉公司生产了染料系的高耐久性偏光片产品。利用二向性染料进行偏光片染色工艺所生产的偏光片产品,目前最高可以满足高温105℃×500HR、湿热90℃×95%RH×500HR以下工作条件的使用要求。但这种工艺方法所生产的偏光片产品一般偏光度和透过率较低,其偏光度一般不超过90%,透过率不超过40%,且价格昂贵。 4.2 工艺流程

偏光片的制备过程包括制膜、浸液、拉伸、胶合保护膜四步。典型的工艺过程一般是:首先用通常的方法制得透明的塑料有机薄膜,将其浸入含有某些特殊化合物(含碘的无机或有机化合物)的溶液中反应,反应后会在薄膜中形成碘链。然后,在不同速度旋转的辊子间,按一定的方向,先将PVA膜单向拉伸3~6倍,使聚乙烯醇分子键高度取向。利用物理和化学的处理,使这种结构尽量固定下来,并且把薄膜烘干,就制成了具有选择性

透过特性的偏振膜。用特定的粘合剂,在此偏振膜的两面都复合一层TAC片基,从而构成原偏光片。在上层TAC膜之外再加覆一层表面保护膜,另在下层TAC膜之外以光学粘着剂贴附离型膜或者反射膜后再贴合表面保护膜,最后进入后道切割工序,这样偏光片就算制成了。世界上各国制造偏光片的工艺方法都相差无几,只是在使用原材料和具体技术细节方面各有特点。 4.3 染色技术

偏光片浸渍染色工艺有碘染色法和染料染色法两种。 (1)干法技术――采用干法技术,PVA膜在一定温度和湿度的蒸汽环境中进行延伸。由于使用较宽幅的PVA膜,生产中不易断膜,大大提高了生产效率。但所形成的偏光片原膜的复合张力和色调的均匀性以及耐久性都不稳定,这种方法在实际生产中很少应用。

(2)湿法技术――采用湿法生产技术,PVA膜在一定配比的液体中进行染色和拉伸。由于PVA膜在液体中延伸的稳定较难控制,易断裂,而且PVA膜的幅宽也受到限制。随着工业控制技术的进步,湿法生产工艺已经极大地改进。从20世纪90年代末起,为提高偏光片产品的利用率,适应大尺寸TFT-LCD大规模生产,液晶用偏光片的基本宽度已展宽到1,330mm。

(3)碘染色法――使用碘和碘化钾作为二向性介质,对PVA薄膜进行碘染色,并将其拉伸而做出偏光片,这是早在20世纪30年代由Land开发的,但至今尚未弄清PVA和碘呈色反应

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净区或生产区与非生产区部分,为管理人员或参观人员提供方便。(10)层流罩――层流罩是一种可提供局部高清洁环境的空气净化设备,它主要有箱体、风机、初效空气过滤器、高效空气过滤器、阻尼层、灯具等组成,箱体喷塑或采用不锈钢材料。(11)空气洁净度等级标准――经济和科技发达的国家和地区都有自己的空气洁净标准和规范标准,都规定了有关的洁净度等级
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