磁盘用基板的制造方法及在磁盘用基板的制造中使用的研磨垫

（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）发明专利说明

（21）申请号 CN201810357734.3 （22）申请日 2014.02.07 （71）申请人 HOYA株式会社

地址 日本东京都

（10）申请公布号 CN108564969B

（43）申请公布日 2019.08.23

书

（72）发明人 久原巧己;长大介;山城祐治

（74）专利代理机构 北京三友知识产权代理有限公司

代理人 丁香兰

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

磁盘用基板的制造方法及在磁盘用基板的制造中使用的研磨垫

（57）摘要

为了降低玻璃基板的主表面的波长为

50～200μm的微小起伏的均方根粗糙度Rq，磁盘用基板的制造方法包括研磨处理，其中，利用一对研磨垫将基板夹持，向该研磨垫与基板之间供给包含研磨磨粒的浆料，使研磨垫与基板进行相对滑动，从而对基板的两个主表面进行研磨。上述研磨垫具有发泡树脂层，该发泡树脂层在表面具有2个以上的开口。由上述研磨垫的表面的拍摄图像得到上述研磨垫的表面的立体形状的信

息，由上述立体形状的信息求出上述研磨垫的表面的算术平均粗糙度Ra时，上述Ra为0.5μm以下。

法律状态

法律状态公告日

2018-09-21 2018-09-21 2018-09-21 2018-10-23 2018-10-23 2019-08-23

法律状态信息

公开 公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

法律状态

公开 公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

权利要求说明书

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