黑色矩阵的制作方法及BOA基板

（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201810888932.2 （22）申请日 2018.08.07

（71）申请人 深圳市华星光电技术有限公司

地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

（10）申请公布号 CN108919582A

（43）申请公布日 2018.11.30

（72）发明人 邱军辉;宋江江;沈顺杰

（74）专利代理机构 深圳市铭粤知识产权代理有限公司

代理人 孙伟峰

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

黑色矩阵的制作方法及BOA基板

（57）摘要

本发明公开了一种黑色矩阵的制作方法，

包括：提供一基板；在所述基板上形成对位标记，并在所述对位标记上方形成保护膜层；对所述保护膜层位于所述对位标记正上方的部分疏水处理；在具有所述保护膜层的所述基板表面涂布光阻，所述保护膜层上被疏水处理的部分无法附着光阻；依次对所述光阻进行曝光、显影，以去除未被光照的光阻材料，形成黑色矩阵。本发明还公开了一种BOA基板。本发明在制作黑色矩阵

的过程中，事先对基板对位标记上方对应的保护膜层区域进行疏水处理，在基板上涂布光阻后，保护膜层表面经疏水处理过的区域无法附着光阻，因此制作出的黑色矩阵不会遮挡对位标记，从而不再影响后续制程的对位精度。

法律状态

法律状态公告日

2018-11-30 2018-11-30 2018-12-25

法律状态信息

公开 公开

实质审查的生效

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实质审查的生效

权利要求说明书

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