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模拟电子电路基础问题详解(胡飞跃)第四章问题详解 - 图文

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4.1 简述耗尽型和增强型MOS场效应管结构的区别;对于适当的电压偏置(VDS>0V,

VGS>VT),画出P沟道增强型MOS场效应管,简要说明沟道、电流方向和产生的耗尽区,并简

述工作原理。

解:耗尽型场效应管在制造过程中预先在衬底的顶部形成了一个沟道,连通了源区和漏区,也就是说,耗尽型场效应管不用外加电压产生沟道。而增强型场效应管需要外加电压VGS产生沟道。

随着VSG逐渐增大,栅极下面的衬底表面会积聚越来越多的空穴,当空穴数量达到一定时,栅极下面的衬底表面空穴浓度会超过电子浓度,从而形成了一个“新的P型区”,它连接源区和漏区。如果此时在源极和漏极之间加上一个负电压VDS,那么空穴就会沿着新的P型区定向地从源区向漏区移动,从而形成电流,把该电流称为漏极电流,记为iD。当vSG一定,而vSD持续增大时,则相应的vDG减小,近漏极端的沟道深度进一步减小,直至vDG?Vt,沟道预夹断,进入饱和区。电流iD不再随vSD的变化而变化,而是一个恒定值。

?= 50μA/V2,Vt = 1V,以及W/L = 10。求下列情4.2 考虑一个N沟道MOSFET,其kn况下的漏极电流:

(1)VGS = 5V且VDS = 1V; (2)VGS = 2V且VDS = 1.2V; (3)VGS = 0.5V且VDS = 0.2V; (4)VGS = VDS = 5V。

(1) 根据条件vGSVt,vDS??vGS?Vt?,该场效应管工作在变阻区。

2??W??vGS?Vt?vDS?1vDSiD?kn=1.75mA

??L?2?(2) 根据条件vGSVt,vDS??vGS?Vt?,该场效应管工作在饱和区。

2?W?vGS?Vt?=0.25mA iD?1kn2L(3) 根据条件vGS?Vt,该场效应管工作在截止区,iD?0

(4) 根据条件vGSVt,vDS??vGS?Vt?,该场效应管工作在饱和区

2?W?vGS?Vt?=4mA iD?1kn2L

4.3 由实验测得两种场效应管具有如图题4.1所示的输出特性曲线,试判断它们的类型,并确定夹断电压或开启电压值。

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图题4.1

图(a)P沟道耗尽型 图 (b) P沟道增强型

4.4 一个NMOS晶体管有Vt = 1V。当VGS = 2V时,求得电阻rDS为1k?。为了使rDS = 500?,则VGS为多少?当晶体管的W为原W的二分之一时,求其相应的电阻值。

?W?vGS?Vt?vDS 解:由题目可知,该晶体管工作在变阻区,则有iD?knLv1 rDS?DS?iDW??vGS?Vt?knL?W?1mAV2 当rDS?1k?时,代入上式可得knL1则rDS?1k?时,0.5k????vGS?Vt??2V?vGS?3V mA12?vGS?Vt?V当晶体管的W为原W的二分之一时,当VGS = 2V时,rDS?2k? 当晶体管的W为原W的二分之一时,当VGS = 3V时,rDS?1k? 4.5 (1)画出P沟道结型场效应管的基本结构。

(2)漏极和源极之间加上适当的偏置,画出VGS = 0V时的耗尽区,并简述工作原理。 解:(1)

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(2)

D

耗尽层GN?N?p型 4.6 用欧姆表的两测试棒分别连接JFET的漏极和源极,测得阻值为R1,然后将红棒(接负电压)同时与栅极相连,发现欧姆表上阻值仍近似为R1,再将黑棒(接正电压)同时与栅极相连,得欧姆表上阻值为R2,且R2>> R1,试确定该场效应管为N沟道还是P沟道。

解:vGS?0时,低阻抗,vGS?0时,高阻抗,即vGS?0时导通,所以该管为P沟道JFET。

S?=100μA/V2。4.7 在图题4.2所示电路中,晶体管VT1和VT2有Vt = 1V,工艺互导参数kn假定? = 0,求下列情况下V1、V2和V3的值:

(1)(W/L)1 = (W/L)2 = 20; (2)(W/L)1 = 1.5(W/L)2 = 20。

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图题4.2

(1) 解:因为(W/L)1 = (W/L)2 = 20;电路左右完全对称,则ID1?ID2?50?A

则有V1?V2?5V?ID1?20k??4V

VGD??4V?Vt,可得该电路两管工作在饱和区。则有:

2?W?VGS?Vt??VGS?1.22V ID?1kn2L?V3?Vs??1.22V

(2) 解:因为(W/L)1 = 1.5(W/L)2 = 20,?可求得:ID1?60?A,ID2?40?A

则有V1?5V?ID1?20k??3.8V,V2?5V?ID2?20k??4.2V

ID1?1.5,同时ID1?ID2?100?A ID2VGD1??3.8V?Vt,VGD2??4.2V?Vt可得该电路两管工作在饱和区。则有:

2?W?VGS?Vt??VGS?1.245V ID1?1kn2L1?V3?Vs??1.245V

???(W/L)=0.5mA/V2,Vt?2V 4.8 场效应管放大器如图题4.3所示。kn(1)计算静态工作点Q; (2)求Av、Avs、Ri和Ro。

2 图题4.3

解:(1)VG?0,?VGS??VS?18?IDRS?18?2ID 考虑到放大器应用中,场效应管应工作在饱和区,则有:

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?W?VGS?Vt? ID?1kn2L22?17ID?64?0 代入上式可得:ID解得ID1?11.35mA,ID2?5.65mA,当ID1?11.35mA时场效应管截止。

VDS因此,ID?ID2?5.65mA,VGS?18?11.3?6.7V,VD?18?2?5.65?6.7V?6.7?(?6.7)?13.4V (2) gm?,

2ID11.3??2.4ms,忽略厄尔利效应 VOV4.7Av?Ri?vo??gm?RD//RL???4.36 vivi?RG?100k? iiRiA??3.96

Ri?RsigvAvs?Ro?RD?2k?

?(W/L)=0.5mA/V2求: 4.9 图题4.4所示电路中FET的Vt?1V,静态时IDQ = 0.64mA,kn(1)源极电阻R应选多大?

(2)电压放大倍数Av、输入电阻Ri、输出电阻Ro; (3)若C3虚焊开路,则Av、Ri、Ro为多少?

图题4.4 解:(1)VG?18?

100??6V

200?1002?W?VGS?Vt??VGS?2.6V ID?1kn2LVS?VG?VGS?2.4V

R?VS?3.75k? IDQ(2) gm?2ID?0.8ms,忽略厄尔利效应 VOVAv?Ri?vo??gm?RD//RL???4.8 vivi?RG?(100k?200k?)?10M? iiRo?RD?10k?

g?R//RL?vo=1.2 ??mDvi1?gmR(3)Av?.页脚

模拟电子电路基础问题详解(胡飞跃)第四章问题详解 - 图文

..4.1简述耗尽型和增强型MOS场效应管结构的区别;对于适当的电压偏置(VDS>0V,VGS>VT),画出P沟道增强型MOS场效应管,简要说明沟道、电流方向和产生的耗尽区,并简述工作原理。解:耗尽型场效应管在制造过程中预先在衬底的顶部形成了一个沟道,连通了源区和漏区,也就是说,耗尽型场
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