各种镀膜机工作原理介绍

各种镀膜机工作原理介绍

-标准化文件发布号：（9556-EUATWK-MWUB-WUNN-INNUL-DDQTY-KII

各种镀膜机工作原理介绍

1．空心阴极离子镀原理

在本底真空为高真空的条件下，由阴极中通入氩器气（1-10-2）

在阴极与辅助阳极之间加上引弧电压，使氩气发生辉光放电，在空心阴极内产生低压等离子体放电，阴极温度升高到2300-2400K时，由冷阴极放电转为热阴极放电，开始热电子发射，放电转为稳定状态。通入反应气体，可以制化合膜。

2.测控溅射工作原理

先将真空室预抽至10-3Pa，然后通入气体（如氩气），气压为1-10 Pa时，给靶加负电压，产生辉光放电，电子在电场正作用下加速飞向基片时，与氩原子碰撞，电离出Ar和另一个电子；

轰击靶材，由二次电子电离的 越来越多，不断轰击靶材；磁场改变电子的运动方向，以电磁场束缚和延长电子的运动轨

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迹，从而提高电子对工作气体的电离几率。

3.多弧离子镀工作原理

其工作原理为冷阴极自持弧光放电，其物理基础为场致发射。

被镀材料接阴极，真空室接阳极，真空室抽为高真空时，引发电极启动器，接触拉开，此时，阴极与阳极之间形成稳定的电弧放电，阴极表面布满飞速游动的阴极斑，部分离子对阴极斑的轰击使其变成点蒸发源，以若干个电弧蒸发源为核心的为多弧离子镀。

4.电阻蒸发式镀膜机

膜材即要镀的材料放于蒸发舟中，置于真空室中，抽到一定真空时，通过电阻加热膜材，使其蒸发，当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源至基片的线性尺寸时，原子和分子从蒸发源中逸出后，到达基片形成

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