MOCVD生长不同Al组分AlGaN薄膜
刘斌;张荣;谢自力;张禹;李亮;张曾;刘启佳;姚劲;周建军;姬小利;修向前;江若琏;韩平;郑有炓;龚海梅
【期刊名称】《激光与红外》 【年(卷),期】2007(037)0z1
【摘要】本文研究了利用金属有机物化学汽相淀积系统(MOCVD)生长高质量不同Al组分AlxGa1-xN薄膜(0.13＜x＜0.8).扫面电子显微镜(SEM)照片表明生长的AlN插入层有效地调节了AlGaN层与GaN支撑层的应力,使AlGaN表面平整无裂纹,原子力显微镜(AFM)测量得到所有AlGaN薄膜粗糙度均小于1 nm.通过原位干涉谱发现,AlGaN薄膜生长速率主要由Ga流量大小控制,随Al组分升高逐渐降低.利用X射线衍射和卢瑟福背散射(RBS)两种方法确定AlGaN薄膜的Al组分,发现Al组分与摩尔比TMAl/(TMGa+TMAl)关系为线性,说明在优化的生长条件下,Al原子与NH3的寄生反应得到了有效的抑制. 【总页数】4页(964-966,970)
【关键词】金属有机物化学汽相淀积;AlGaN;薄膜生长
【作者】刘斌;张荣;谢自力;张禹;李亮;张曾;刘启佳;姚劲;周建军;姬小利;修向前;江若琏;韩平;郑有炓;龚海梅
【作者单位】江苏省光电信息功能材料重点实验室,南京大学物理系,江苏,南京,210093;江苏省光电信息功能材料重点实验室,南京大学物理系,江苏,南京,210093;江苏省光电信息功能材料重点实验室,南京大学物理系,江苏,南京,210093;江苏省光电信息功能材料重点实验室,南京大学物理系,江苏,南京,210093;北京科技大学物理系,北京,100083;江苏省光电信息功能材料重点实验室,南京大学物理系,江苏,南京,210093;江苏省光电信息功能材料重点实验室,
MOCVD生长不同Al组分AlGaN薄膜
