（19）中华人民共和国国家知识产权局
（12）发明专利申请
（21）申请号 CN201010601911.1 （22）申请日 2010.12.22
（71）申请人 京东方科技集团股份有限公司
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
（10）申请公布号 CN102569185A
（43）申请公布日 2012.07.11
（72）发明人 刘翔;薛建设
（74）专利代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 刘芳
（51）Int.CI
H01L21/77; H01L27/12; G02F1/1362;
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
阵列基板及其制造方法和液晶显示器
（57）摘要
本发明公开了一种阵列基板及其制造方法
和液晶显示器。其中，阵列基板的制造方法，包括在衬底基板上形成导电图案和绝缘层的步骤，所述导电图案至少包括栅线、栅电极、有源层、源电极、漏电极、数据线和像素电极，其中，形成所述栅线、栅电极和像素电极的步骤具体包
括：在衬底基板上依次沉积透明导电薄膜和栅金属薄膜；通过构图工艺刻蚀所述透明导电薄膜和所述栅金属薄膜形成包括栅线的图案，且刻蚀所述栅金属薄膜形成包括栅电极和像素电极的图案。本发明栅电极与像素电极的为相同的透明导电薄膜，栅电极厚度低、与源漏电极的重叠面积小，不同像素单元的寄生电容均匀，液晶显示器的显示画面不易出现闪烁，提高了液晶显示器的显示质量。
法律状态
法律状态公告日
法律状态信息
2012-07-11 公开
2012-09-12 实质审查的生效
2015-04-01
发明专利申请公布后的驳回法律状态
公开
实质审查的生效
发明专利申请公布后的驳回
权利要求说明书
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阵列基板及其制造方法和液晶显示器
