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12FMA实验室分析技术 - 图文

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附录:

SHU267B SE整体形貌分析报告

作者:周兰珠

摘要

本文介绍了我公司生产的 SHU267B电路SEM结构解剖情况,并对电路的特殊部位一高压

NMO管的物理结构做了重点分析,提供了芯片各关键层次的 SEM^析图片及测量数据。

正文

一、

产品信息:

SHU267是用于热敏打印机上的驱动电路,电路采用了工作电压大于34V高压输出管阵列, 其工艺采用6寸1.5um SPSM CMOS阱工艺。 二、 样品信息:

1. 圆片批号及片号:SHU267B 616OGG7P 8#

2. 在线异常记录:PAD专检时,圆片因平边对面局部区域有残胶及严重的钝化层沾污被剔片。 3. 样品制备:裂片后,分别取圆片中心高压及普通 MOS管所在位臵做样品,经 BHF漂洗、

蒸金后进行SEM分析。

SEM图片及分析 I、常规物理结构 1. 场氧、多晶及鸟嘴

Poly-gate width : 2.18um

图1.

图2.

Poly connect: 2.678um 2\有源区及Poly上接触孔

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4、各层次膜厚

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n .高压NMO管物理结构分析

1、表面形貌

2. HV-NMOS勺剖面结构

图9 图10 图11 图12

图13

3. HV-NMOS勺 POLY-GAT分布

图14 图15 图16

1.32um

HV-NMOS Poly-Gate

2.0u

1.73um

4. HV-NMOS的高压缓冲区(漂移区)

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四、各关键层次SEM测量数据

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1.膜厚(Thickness) 测量

Parameter Fox un der Poly Fox under D1 Poly D1 un der MetAl D1 un der CAPS M1 CAPS

Measure (Unit:A) 5700 5600 4050 5253 2625 Ti Al-Si-CU CAPS1 (TEOS ) CAPS2 (SiN) 975 7500 2927 6825 2.线宽测量(Unit:um)

Parameter LV-MOS Poly -Gate Poly-Gate totAl le ngth Poly-Gate (cha nnel) HV-NMOS Buffer (to Drai n) Buffer (to Source) Co ntact (on Gasad ) Width / Depth Co ntact (on Poly) Width / Depth M1 Width / Space Measure (Unit:um) 2.096 5.063 2.0 2.78 2.68 1.76 / 0.518 1.81 / 0.563 1.29 / 1.55

3.其它测量

Parameter B.B M1 OE (on D1) Con tact Step Coverage Measure 0.504um 2438A 51.97%

五、结论

综合以上SEM分析图片及各关键层次测量数据,可对电路的结构及工艺情况做如下总结: I.Poly 及 B.B 分布正常,LVMO管 POLY-GATE^ 2.0um 长(图 1、2、3)。 2. 有源区及POLY上的接触孔形貌良好,M1台阶覆盖率约50%(图4、5、6)。

3. Al分布正常,但过腐蚀量太大,达2400A左右,因此造成Al外区域D1膜厚仅剩2600A (图 7、8)。

4. 除D1外,其余各关键层次膜厚均正常(图 9、10)。

5. 高压NMO管采用双缓冲区分压结构,估计缓冲区上压降约 30V左右(图11-16)。 六. 感谢

电路常规部分的SEM分析由FMAIAB刘慧女士完成;本次分析中曾得到CTS部周伟先生的帮助 在此,向他们表示衷心地感谢!

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附录:SHU267BSE整体形貌分析报告作者:周兰珠摘要本文介绍了我公司生产的SHU267B电路SEM结构解剖情况,并对电路的特殊部位一高压NMO管的物理结构做了重点分析,提供了芯片各关键层次的SEM^析图片及测量数据。正文一、产品信息:SHU
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