下摆机精磨抛光工艺
文件名称 下摆机研磨工艺 制定时间 版次 第一版 作成 审核 批准 一、目的:
光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。 1、去除精磨的破坏层达到规定的外观质量要求。
2、精修面形，达到图纸规定的曲率半径R值，并满足零件光圈数N及光圈局部
误差?N的要求。 二、抛光机理:
认为抛光是精磨的继续，它们从本质上是相同的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃 表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削
作用可以在分子大小范围内进行。由于抛光模与镜片表面相当吻合，因此抛光时切
向力很大，从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉，逐渐形成光滑的表面。实验表
明抛光粉粒度在一定范围时，粒度越大，抛光效率越高;抛光粉硬度越高，抛光速
率越高(如氧化铈Ce0抛光粉比红粉Fe0硬度高，前者比后者抛光速率高2,3倍)。 223
另外在一定范围内，增大抛光压力，提高主轴转速，抛光速率显著提高，高速 抛光即是依此而发展起来的。通过实验测得，抛光去除掉的玻璃颗粒尺寸大约为1,
1.2 um。仅从以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。 具 体
三、抛光基本常识: 1、光圈的概述: 内
被检查镜面表面面形与标准曲率半径的原面形有偏差时，它们之间形成对称的容 契形空气间隙，从而产生等厚干涉条纹，在白光照射下，可见到彩色光环，这种彩
色环称为光圈，物理学中称牛顿环。 光圈数:红色光圈有几圈，光圈数就几圈.
光圈 象散光圈允差 ?椭圆、马鞍形、棱形 (面检) (?N1表示) 局部 误差光圈局部不规则程度 ?中高、中低、翘边等 2、光圈的识别: (?N2表示) 误差 高光圈与低光圈:
a. 高光圈:一低头或稍用力压镜片，光圈向外扩散的，即高光圈; b. 低光圈:一低头或稍用力压镜片，光圈向内收缩的，即低光圈; 低光圈 高光圈
3、光圈数与局部误差的计算方法: a) 光圈数的计算方法:N=N检-N补
光圈数N，实际光圈数为N检，基准补负为,补。
例:基准补负2圈，实际测光圈数为,,圈，则:,,,检,,补=4-(-2)=-2 圈
b) 局部误差计算方法:
A、象散光圈:?N1=b/a-1 B、光圈局部不规划:?N2=a/b=0.2/1=0.2 a
规则:0.5圈OK b
四、抛光前所需的准备工作: 1、配抛光液:
用对应的抛光粉配一定浓度的抛光液，一般抛光液的浓度设定为1.015—1.025 3 (g /cm)，具体根据实际的玻璃情况设定，一般选择原则是软玻璃浓度小些，硬玻璃浓度适当取大一些。大约比例为:
磨耗度: 70—120(硬) 120—170(中等) 180(软)以上
比重 :1.030—1.035 1.020—1.030 1.015—1.025 以上仅供参考。 总之，对于不同玻璃的镜片，应根据其化学稳定性(耐水性、耐酸性)和磨耗度，选择不同种类、不同粒度的抛光粉，并设定其浓度及PH值。
2、聚氨酯片的选用:
化学名称为聚氨基甲酸酯，简称聚氨酯。我们所用的聚氨酯片，是一种具有良好微孔结构，其强度、耐磨性、耐酸性、耐热性均较好，其硬度和塑性适中，是一种抛光效率高，使用寿命长的研磨抛光材料。其抛光镜片表面粗糙度为0.01—0.04μm.。
根据玻璃的磨耗度，从硬到软可参考按以下顺序选用聚氨酯片: 1(LP—87 淡黄色或肤色 2(LP—57 白色
3(LP—26 粉红色(一般一种多用，单片，多片均可) 4(LP—66 红褐色或暗红色(多片或大镜盘多用) 5(GR—35 灰色(软硝材多用)
其中LP—87和LP—57一般在单片高速加工经常采用。(主轴转数在2500rpm以上)。LP—26Z中高速一般硝材适宜，LP—66、GR—35软材低速(1500rpm以下)
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