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(仅供参考)化学气相沉积 - 图文

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化学气相沉积——其它化学气相沉积方法MOCVD缺点:(1)尽管比CVD有明显改善,但残留杂质含量仍很高。(2)单晶厚度的控制需要进一步改善。(3)供气回路复杂,且要求高。(4)反应气体及尾气一般为易燃、易爆及毒性很强的气体。(5)原料价格高,供应受限。化学气相沉积——其它化学气相沉积方法光CVD:利用光能使气体分解,增加反应气体的化学活性,促进气体之间化学反应的化学气相沉积技术1)激光的特点:能量集中、单色性好、方向性好??加热基片??热分解气体?热作用 ?????控制反应速度2)激光的作用:???控制沉积区域???活化、敏化、分解反应物?光化学作用 ???诱发反应?3)主要优势:利用光能代替热能,解决沉积温度过高的问题激光辅助CVD装置示意图化学气相沉积——其它化学气相沉积方法①工作原理:电子回旋共振(ECR,Electron Cyclotron Resonance)电子在流场压力及电磁场的共同作用下,一方面向下游移动,一方面还以谐振频率发生高速回旋运动,?电子运动路径↑↑?电子与气体分子发生碰撞促使其电离的几率↑↑?等离子体密度显著↑↑(>>1012 e/cm3)?ECR装置实际上就是一个超高电荷密度的离子源,其产生的等离子体具有极高的电荷密度和活性。②ECR PECVD的基本特点:■需要高真空环境:P= 10-1~10-3 Pa;■气体电离程度接近100%,比一般PECVD 高3个数量级以上;■ECR离子束既是沉积物活性基团,又带有很高的能量。③ECR PECVD的优势:●ECR是方向、能量可控的离子源?对复杂形状样品覆盖性好!●沉积离子都带有几个eV能量?改善表面扩散?薄膜致密、性能好!●低气压低温沉积、沉积速率高、无电极污染。电子回旋共振(ECR) PECVD装置(课本P159 图4.32)化学气相沉积——习题和思考题1.CVD热力学分析的主要目的?2.CVD过程自由能与反应平衡常数的过程判据?3.CVD热力学基本内容?反应速率及其影响因素?4.热分解反应、化学合成反应及化学输运反应及其特点?5.CVD的必要条件?6.什么是冷壁CVD?什么是热壁CVD?特点是什么?7.什么是开管CVD?什么是闭管CVD?特点是什么?8.什么是低压CVD和等离子CVD?

(仅供参考)化学气相沉积 - 图文

化学气相沉积——其它化学气相沉积方法MOCVD缺点:(1)尽管比CVD有明显改善,但残留杂质含量仍很高。(2)单晶厚度的控制需要进一步改善。(3)供气回路复杂,且要求高。(4)反应气体及尾气一般为易燃、易爆及毒性很强的气体。(5)原料价格高,供应受限。化学气相沉积——其它化学气相沉积方法光CVD:利用光能使气体分解,增加反应气体的化学活性,促进气体之间化学反应的化学气相沉积技术1)激光的特点
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