(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(21)申请号 CN200710141193.2 (22)申请日 2004.11.29
(71)申请人 广辉电子股份有限公司
地址 中国台湾桃园县
(10)申请公布号 CN101118359A
(43)申请公布日 2008.02.06
(72)发明人 川崎清弘
(74)专利代理机构 永新专利商标代理有限公司
代理人 韩宏
(51)Int.CI
G02F1/1362; G02F1/133; H01L27/12; H01L29/786; H01L21/77; H01L21/027; G03F7/00;
权利要求说明书 说明书 幅图
(54)发明名称
液晶显示装置及其制造方法
(57)摘要
过去的删减制造工序数量的制造方法当通
道长度变短时,制造余量变小,量产率较低。其解决手段是将引入半色调曝光技术而使扫描线的形成工序和半导体层的岛化工序予以合理化的新颖技术;和将半色调曝光技术引入到属于公知技术的源极、漏极布线的阳极氧化工序中,使电极端子的保护层形成工序予以合理化的新颖技术;和属于公知技术的同时形成像素电极和扫描线的合理化技术,进行组合而构筑TN型液晶显示装置和IPS型液晶显示装置的四道掩膜板工艺方案和三道掩膜板工艺方案。
法律状态
法律状态公告日
法律状态信息
2008-02-06 公开
2008-04-02 实质审查的生效
2008-04-09 专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 2009-06-17
授权
法律状态
公开
实质审查的生效
专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 授权
权利要求说明书
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