（19）中华人民共和国国家知识产权局
（12）发明专利说明
（21）申请号 CN201510617500.4 （22）申请日 2015.09.24
（71）申请人 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
（10）申请公布号 CN105116685B
（43）申请公布日 2019.10.01
书
（72）发明人 隆清德;康玉龙;梁元;张智勇;樊利伟 （74）专利代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人 申健
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
一种光刻胶图案的制作方法、彩色滤光片及显示装置
（57）摘要
本发明的实施例提供一种光刻胶图案的制
作方法、彩色滤光片及显示装置，涉及显示技术领域，可形成窄线宽的黑矩阵，提高显示装置的透过率和开口率。该方法包括：在衬底基板上涂覆负性光刻胶形成第一光刻胶层，并在第一光刻胶层上涂覆正性光刻胶，形成第二光刻胶层；对第二光刻胶层的第一区域进行第一次曝光，经第一次显影后，去除第二光刻胶层中第一区域的正性光刻胶，以及第一光刻胶层中第二区域的负性
光刻胶，得到第二光刻胶层中保留的第一光刻胶图案和第一光刻胶层中保留的第二光刻胶图案；对第一光刻胶图案和第二光刻胶图案进行第二次曝光，经第二次显影后，去除第一光刻胶图案，保留第二光刻胶图案。该方法可应用于彩色滤光片的制作过程中。
法律状态
法律状态公告日2015-12-02 2015-12-02 2015-12-30 2015-12-30 2019-10-01
法律状态信息
公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权
法律状态
公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权
权利要求说明书
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一种光刻胶图案的制作方法、彩色滤光片及显示装置
