光刻仪技术参数
一、技术参数
1. 光刻机系统组件必须包括以下部分 A. 主机 B. 对准平台 C. 正面对准系统 D. 曝光系统 E. 光学系统
F. 配套基片夹具以及掩膜版夹具 G. 日常光强维护工具套装 H. 原装进口防震台
2. 曝光系统必须包括以下部分 A. 200W、350W、500W汞灯电源 B. 200W、350W、500W汞灯
C. 恒光强、恒功率控制；功率及光强可调 3. 光学系统必须包含以下部分
A. UV250, UV300, UV400微光学系统，紫外光波长：350nm～450nm ★B. 标准配置大间距和精细曝光组件，两种应用之间切换所需时间小于5分钟。可根据用户要求定制特殊光学系统。 C. 光强：40mw/cm2 （全波长）
★D. 光强均匀性：≤±2.5%（100mm 基片）
E. 曝光头面积：≥φ115mm，以保证100mm有效范围内光强及其均匀
性
4. 对准系统
A. 对准方式：手动对准 B. 对准类型：单面 ★C. 显微镜配置：
正面双视场光学CCD显微镜，支持目镜以及显示屏对准，配置5倍，10倍，20倍标准物镜。
★D. 对准精度：正面 ≤ ±0.5μm
E. 手动装卸掩模版和基片，并在夹具上可作机械预对准 F. 基片找平方式：手动找平 G. 对准台
对准平台移动范围： X, Y = ± 5mm; θ= ±5° 对准平台移动精度： X, Y: 0.1um; θ= ±4e-5°
H. 接近式曝光间距设定范围：10 -50um，距设定精度：1um Step ★5. 配套基片夹具以及掩膜版夹具包括以下部分
A. 5mmX5mm至10mmX10mm小片夹具，10mmX10mm至20mmX20mm小片夹具，2寸和4寸基片夹具各1个，都支持真空接触式曝光
B. 掩模版架，2寸开孔（可放置3寸~5寸版），4寸开孔（可放置5寸版）各1个 6. 日常光强维护工具 A. 光强计主机 B. 365nm/405nm探头
C. 护目镜 D. 光强测试位置仪 7. 图形工艺效果要求
A. 曝光类型：接触式包括软接触、硬接触、真空接触、接近式曝光 B. 精度要求：真空接触曝光精度 ≤0.8μm; 硬接触精度 ≤1μm; 软接触精度 ≤ 2μm; 接近式曝光精度 ≤ 3μm (1μm光刻胶条件下) ★为保证服务质量，如采用进口产品竞标，竞标时必须提供生产厂家或国内代理商出具的授权书或售后服务承诺书原件 二、配置 1. 光刻机主机 2.分离视场显微镜 3. 图像识别系统 4. 5倍物镜 5. 10倍物镜 6. 20倍物镜 7. 汞灯适配器 8. 汞灯电源 9. 350W汞灯 10.微光学系统 11.光强传感器
12. 5mmX5mm至10mmX10mm小片夹具 13.10mmX10mm至20mmX20mm小片夹具
14. 2寸夹具 15.4寸夹具
16. 2寸开孔掩膜版架（可放置3寸~5寸版） 17. 4寸开孔掩膜版架（可放置3寸~5寸版） 18. 220V/50HZ 真空泵 19.光强计 20.光强计探头 21.护目镜 22.防震台
光刻仪技术参数
