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国家标准-磷化镓单晶-编制说明

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国家标准《磷化镓单晶》编制说明(讨论稿)

一、工作简况 1、立项目的与意义

磷化镓(GaP)是Ⅲ族元素Ga和Ⅴ族元素P化合而成的半导体材料。磷化镓单晶是一种电子功能材料,主要用于制备可见光的发光二极管,根据掺杂的不同,可以发出红色、黄色、绿色等不同颜色的光,具有一定的市场价值。目前现有的标准为《GB/T 20229-2006磷化镓单晶》,随着生产水平的提高,已经不能满足现有产品的需求,有必要对技术参数加以规范,进行修订、增加相关指标。形成新的统一标准后,可作为磷化镓单晶行业今后组织生产、销售和接受质量监督的依据,以利于磷化镓的更好发展。

2、任务来源

根据《国家标准化管理委员会关于下达2019年第四批推荐性国家标准计划的通知》(国标委发[2019]40号,2019年12月31日),由中国电子科技集团公司第十三研究所(以下简称中国电科13所)负责修订《GB/T 20229-2006磷化镓单晶》,计划编号为20194175-T-469。

3、承担单位概况

本项目承担单位中国电子科技集团公司第十三研究所,多年从事电子材料和元器件的研制和生产,且重视标准化工作,是全国半导体器件标准化技术委员会秘书处依托单位,是国际电工委员会IEC TC47技术委员会的技术对口单位,多年来一直在标准化领域开展了大量国内和国际标准化工作。

中国电科13所从70年代开始从事磷化镓单晶材料制备的科研工作,已有40余年的历史,获得过《磷化镓材料在单晶炉内合成和制备》的全国科学大会奖。本单位具有丰富的工作经验,技术力量雄厚,专业配置合理,具有很强的科研技术开发能力,了解和熟悉国内磷化镓单晶材料的生产、使用和研制工作动态及技术水平。中国电科13所曾编写了GB/T 20229《磷化镓单晶》、GJB 2917A《磷化铟单晶片规范》、GB/T 20230《磷化铟单晶》、SJ/T 21475《磷化铟单晶片几何参数测试方法》等多项国军标、国标及行军标。

4、编制过程

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中国电科13所于2020年1月成立编制组,负责本标准的调研和编写工作。2020年1月~7月之间,编制组根据任务落实会确定的起草原则,对国内外生产磷化镓单晶产品的相关企业进行调研和统计,并调研了下游客户的质量要求,按照产品标准的编制原则、框架要求和国家的法律法规,同时结合企业的一些技术指标和检验数据,起草了本标准的初稿。

二、标准主要内容和确定主要内容的依据 1、编制原则

本标准起草单位自接受起草任务后,成立了标准编制组负责收集生产统计、检验数据、市场需求及客户要求等信息,初步确定了《磷化镓单晶》标准起草所遵循的基本原则和编制依据:

1) 2)

查阅相关标准和国内外客户的相关技术要求;

根据国内磷化镓单晶生产企业的具体情况,力求做到标准的合理性和实用

性; 3) 4)

根据技术发展水平及测试数据确定技术取值范围;

按照GB/T 1.1产品标准编写示例的要求进行格式和结构编写。

2、标准主要内容和确定主要内容的依据

本规范的内容是在GB/T 20229-2006的基础上,针对原有标准中与当前实际应用中不符合的部分进行修订,主要修订内容如下: 2.1 牌号

不再独立进行牌号的要求编写,修改后符合GB/T 14844的规定,形成统一标准。 2.2 电学性能

修订了磷化镓单晶锭的电学性能中N型材料的指标,增加了半绝缘型、P型指标。 经过调研中国电科13所、有研光电、日本信越化学等单位,电学性能指标依据国内多家单位电学参数结果,结合完成的多个课题指标要求,综合国外磷化镓生产厂家的产品参数,在满足国内客户需求的基础上,考虑现有国内制备磷化镓单晶锭的水平,制定出了电学特性参数的指标。

表1 电学性能

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电阻率 导电类型 掺杂剂 Ω·cm -3载流子浓度 cm 17-3迁移率 cm/(V?s) 2S (0.1~6)×10 -3(1.0~8.0)×10 17≥100 N Te (1~6)×10 ≥5×10 16≥100 非掺 - 7≤1×10 ≥100 半绝缘型 Fe ≥5×10 - 17- P Zn - ≥1×10 ≥20 2.3位错密度

修订了位错密度的表示方法,更改为位错密度级别,并将此节调整为磷化镓单晶锭指标。

经过调研中国电科13所、有研光电、日本信越化学等单位,位错密度指标依据国内多家单位电学参数结果,结合完成的多个课题指标要求,综合国外磷化镓生产厂家的产品参数,在满足国内客户需求的基础上,考虑现有国内制备磷化镓单晶锭的水平,制定出了位错密度参数的指标。

原标准中将位错密度统一写成不大于5×1017个/cm2,随着单晶制备水平的提高,目前可以做到更低位错密度水平。因此,进行了修订,将参数划分为三个级别,如下表:

表2 位错密度级别划分

位错密度 级别 个/cm 2Ⅰ ≤1×10 555Ⅱ >1×10~3×10 55Ⅲ >3×10~5×10 2.4 表面取向

增加了磷化镓单晶片表面取向的偏离大小。

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根据目前国内外磷化镓生产厂家的实际生产情况,和用户使用要求,综合国外多家磷化镓生产厂家的产品参数,进行指标的增加。目前随着加工水平的提高,生产厂家基本能满足上述要求。

2.5 几何参数

增加了几何参数指标参考面长度及允许偏差、翘曲度、总厚度变化、总指示读数,增加了63.5mm的单晶片指标;

根据目前国内外磷化镓生产厂家的实际生产情况,增加63.5mm磷化镓单晶尺寸规格,将磷化镓单晶片直径分为“50.8mm和63.5mm”,并规定其相应的几何参数指标。

根据用户使用要求,综合国外多家磷化镓生产厂家的产品参数,修订了磷化镓单晶片的参数指标。指标如下所示:

表3 磷化镓单晶片几何参数 直径及允许偏差 mm 50.8±0.5 63.5±0.5 76.2±0.5 厚度及允许偏差 μm 300±20 300±20 500±20 参考面长度及允许偏差 mm 16.0±2.0 20.0±2.0 22.0±2.0 翘曲度warp μm ≤12 ≤15 ≤18 总厚度变化TTV μm ≤15 ≤15 ≤15 总指示读数TIR μm ≤10 ≤10 ≤15 在实际生产中,50.8mm直径参考面长度一般采用16.0±2.0mm,63.5mm直径参考面长度一般采用20±2.0mm,76.2mm直径参考面长度一般采用22±2.0mm,后续加工时定晶向较方便准确;实际生产中晶片几何参数的总厚度变化和翘曲度在表3范围内的研磨片,后续外延层的生长质量较好。 2.6表面质量

增加了磷化镓单晶片表面质量要求,即应无孪晶、无划伤、无崩边、无裂纹、无桔皮、无凹坑、无沾污等。

根据目前国内外磷化镓生产厂家的实际生产情况,和用户使用要求,综合国外多家磷化镓生产厂家的产品参数,进行指标的增加。目前随着加工水平的提高,生产厂家基本能满足上述要求。

这几项要求为研磨片的基本要求,单晶片的表面质量将直接影响后续外延层的生长质量。

5

2.7增加了第8章订货单内容章节

三、标准水平分析

四、与我国有关的现行法律、法规和相关强制性标准的关系

本标准与国家现行法律、法规和相关强制性标准不存在相违背和抵触的地方。

五、重大分歧意见的处理经过和依据

六、标准作为强制性标准或推荐性标准的建议

本标准作为推荐性国家标准发布实施。

七、代替或废止现行有关标准的建议

本标准修订后,将代替GB/T 20229-2006磷化镓单晶

八、其他需要说明的事项

九、预期效果

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国家标准-磷化镓单晶-编制说明

国家标准《磷化镓单晶》编制说明(讨论稿)一、工作简况1、立项目的与意义磷化镓(GaP)是Ⅲ族元素Ga和Ⅴ族元素P化合而成的半导体材料。磷化镓单晶是一种电子功能材料,主要用于制备可见光的发光二极管,根据掺杂的不同,可以发出红色、黄色、绿色等不同颜色的光,具有一定的市场价值。目前现有的标准为《GB/T20229-2006磷化镓单晶》,随着生产水
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