(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(21)申请号 CN94108573.2 (22)申请日 1994.08.18 (71)申请人 特富科青森株式会社
地址 日本青森县
(10)申请公布号 CN1116663A (43)申请公布日 1996.02.14
(72)发明人 中村忠知
(74)专利代理机构 上海专利商标事务所
代理人 刘立平
(51)Int.CI
C25D1/00; B44C1/16;
权利要求说明书 说明书 幅图
(54)发明名称
电沉积图样的形成方法
(57)摘要
一种电沉积图的形成方法:依次在金属板
表面形成导电性覆膜及电沉积图样;从金属表面剥离电沉积图样和覆膜,并转移至支承基体材料的压敏粘结剂层上;再从电沉积图样上剥离导电性覆膜;电沉积图样之露出面上形成固定用粘结剂层,由此在从支承基体材料上剥离电沉积图样的同时,将其贴附于被贴附物上。根据本发明的
方法,金属板不易变形,可长期使用,且不必对金属板表面作镜面加工,可高效地制造出其里侧面光滑、优质的电沉积图样。
法律状态
法律状态公告日
1995-08-02 1996-01-24 1996-02-14 2002-10-09 2014-09-17
法律状态信息
实质审查请求的生效 实质审查请求的生效 公开 授权 专利权的终止
法律状态
实质审查请求的生效 实质审查请求的生效 公开 授权 专利权的终止
权利要求说明书
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电沉积图样的形成方法
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(21)申请号CN94108573.2(22)申请日1994.08.18(71)申请人特富科青森株式会社地址日本青森县(10)申请公布号CN1116663A(43)申请公布日1996.02.14<
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